二手 PICOSUN R-200 #293831267 待售
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PICOSUN R-200是一種可處理的通用批處理原子層沈積(ALD)反應堆。它是一種強大、可重復的工具,能夠精確控制薄膜塗層和材料沈積,非常適合用於材料科學或商業制造的研發。PICOSUN R 200由一個不銹鋼反應堆室、真空設備以及一整套用於反應性化學預處理的外部控制器和軟件組成。整個系統專為緊湊和易於使用而設計。它基於化學氣相沈積(CVD)的原理,並通過用戶控制、精確地將反應物氣體註入裝置來實現。R-200的用戶可控特性使用戶能夠快速、輕松地定制沈積參數,確保塗層的精確。它具有連續或半批量的操作模式,使薄膜沈積具有高通量和低汙染。工藝壓力是可調的,能夠生產厚度從幾納米到幾百納米不等的元件。R 200的多功能設計使得它可以用於包括半導體、化學和光電子在內的多種應用。它具有適合低溫(低於150 °C)和常溫(高於250 °C)過程的特性。高功率加熱機保證了快速穩定的溫度控制,集成的化學鍵活化機理產生了性能優良的強保形塗層。PICOSUN R-200的設計是為了安全和方便。它具有兩步安全的緊急停止(ESTOP)和低壓關閉的安全工具,以及防止在處理之前和處理過程中出現任何超出規格的故障安全閥資產。此外,標準的控制面板提供了易於監測的氣體壓力和溫度。PICOSUN R 200是一種創新和可靠的工具,用於材料科學的研發以及商業制造需求。它對薄膜工藝的精確控制使用戶能夠生產出所需的具有精確保形塗層的組件。用戶控制的特性、安全可靠的操作和多應用程序兼容性使R-200成為精確的材料沈積和薄膜工藝的理想解決方案。
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