二手 PICOSUN R-200 #9283497 待售

PICOSUN R-200是一個先進、模塊化、用戶友好的原子層沈積（ALD）反應堆。它是為工業規模、大批量生產各種材料的薄膜而設計的，如納米結構材料和各種氧化物材料。PICOSUN R 200具有模塊化設計，允許使用任意數量的流程模塊來創建占地面積小的特定流程模塊。R-200還包含加熱/冷卻設備,溫度可高達1000攝氏度。R 200是一種封閉室化學氣相沈積（CVD）系統，是為各種材料的薄膜、均勻膜的大面積沈積而研制的。該腔室采用惰性非導電陶瓷材料建造。在內部，氣體入口和出口便於與定制的前體兼容。PICOSUN R-200配備了先進的計算機單元，使研究人員能夠監測和控制溫度、反應時間、氣流、壓力和氣體成分等反應參數。工藝參數可以用+/-0.05度C的精度進行調整，以生產出一致的高質量薄膜。將前體氣體以一致的方式引入沈積室，控制沈積速率，確保均勻性。PICOSUN R 200提供了一個高效、可靠和具有成本效益的平臺來控制參數並確保精確的沈積過程。在緊急情況下，R-200的安全機器會將壓力降低到泄漏安全水平，關閉氣體，沖洗腔室空氣。R 200專為量產而設計，一次最多可處理60個晶圓。樣品沈積的可尋址面積最大為300 mm x 300 mm。單晶片加載機制可確保過程安全,確保整個晶片上的薄膜均勻。PICOSUN R-200為研究和工業需求提供了安全可靠的塗層解決方案。總體而言，PICOSUN R 200是一種可靠、高效、先進的ALD反應堆工具。R-200以其先進的技術和高精度的工藝控制，非常適合工業規模、大批量生產各種材料的薄膜。