二手 PICOSUN Sunale R 200 #9182976 待售
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已售出
ID: 9182976
晶圓大小: 12"
優質的: 2013
Advanced ALD system, 12"
Maximum temperature: 500°C
Vacuum chamber:
Stainless steel vessel
With KF/CF connection flanges
Reaction chamber:
Metal sealing surface
Single Si wafer / Smaller wafers: 4", 6"
Sample holder
Substrate holder: 8"
Wafer / Smaller wafers, 4", 6"
Advanced source control
Electronics system
Touch panel PC
Electronics cabinet
ALD and electronics
PicosolutionTM 600 source system
Cooled source systems
High vapor pressure liquid precursors
Maximum capacity: (3) 600mL
Boosted PicohotTM 200 source system
Heated source systems: 200°C
PicohotTM 300 source system
Heated source system: 300°C
PicogasesTM connection
ALD Precursor
Vacuum chamber: AISI304
Reaction chamber: AISI316L
RC-200 Chamber with metal sealing surface
Sample holder: SH-200
(2) High vapor pressure chemicals
Low vapor pressure metal precursors
Includes:
Plumbing
Valves
Control of extra gas source
2013 vintage.
PICOSUN Sunale R 200是一種用途廣泛的化學氣相沈積（CVD）反應器，用於薄膜沈積。它旨在制造極薄和高質量的塗層，以及實現氧化鐵錫（ITO）和無大環反射層。也可用於3D打印和金剛石樣碳（DLC）塗層。Sunale R 200是一款緊湊、堅固、獨立的設備。它配備了先進的自動膜厚度控制（AFTC）系統，提供了出色的批量-批量可重復性的塗層厚度和質量。該反應堆還具有較高的沈積速率和較高的工藝穩定性。它能夠在高溫和低溫過程中獲得均勻、無缺陷的薄膜生長。該單元吞吐量高，適合大體積沈積應用。此外，它還能夠處理大基板，最大200 x 500毫米或單個400 x 500毫米晶圓。其先進的真空室設計專長於厚膜的均勻沈積，需要最小的腔室清洗。此外，機器有一個自動排氣工具，可確保在幾秒鐘內精確清除10毫巴。PICOSUN Sunale R 200配備了高溫紫外線（UV）高溫計，有助於控制室內溫度輪廓和均勻性。資產還有一個測量腔壁溫度的光學溫度計，有助於確保安全和均勻加熱。它還設有一個惰性氣體引入窗口，允許在需要額外氣體沈積的生長過程中引入惰性氣體。Sunale R 200設備齊全，適用於一系列CVD應用，為薄膜的沈積提供了優越的品質。它具有較高的沈積速率和卓越的工藝穩定性，其自動化的AFTC模型確保了極好的批對批可靠性。自動排氣設備，加上惰性氣體引入窗口，保證了精密工藝和高吞吐量。該系統用途廣泛，能夠沈積各種薄膜，包括氧化銨錫和類似金剛石的碳塗層。
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