二手 PLASMATHERM LAPECVD PDC #9382231 待售

PLASMATHERM LAPECVD PDC是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，旨在滿足當代半導體和光電器件制造的苛刻需求。PDC利用激光輔助等離子體（LAPECVD）等先進特性和無阻滯等離子體生成，在高達1000 °C的溫度下將高質量、低缺陷的介電、導電、光學和其他材料沈積在各種基板上。先進的LAPECVD設備通過三腔激光系統創造出具有低溫電子能量分布的高度均勻、穩定、均勻的等離子體。這些特性使裝置能夠在沈積速率、均勻度、雜質摻入、氣體占空比、沈積溫度等參數的精確控制下沈積均勻致密的薄膜層。該機器還可以配置為可容納直徑不超過330毫米的基材尺寸，從而能夠高效率地生產商用和研究級材料沈積的中大規模器件制造。無阻滯等離子體生成工具具有廣泛的功率處理範圍,允許沈積和蝕刻過程之間快速過渡,而無需冷卻和重新啟動過程。隨著大源氣體註入孔，PDC在反應均勻性和穩定性方面提供了額外的改進。PDC的高級控制資產包括一個專用的、集成的軟件接口，旨在對整個沈積和蝕刻過程提供方便的控制，允許輕松調整參數，包括溫度/脈沖功率、脈沖頻率、射頻功率、特殊氣體和基板持有人條件。LAPECVD PDC模型是一種先進高效的PECVD反應器，能夠滿足半導體和光電器件制造應用中最嚴格的要求。PDC配備了先進的功能和精確的控制選項,為各種基材和器件尺寸提供了可靠、均勻、一致的介電、導電、光學和其他材料沈積。