二手 PLASMATHERM LAPECVD PM3 #9382240 待售
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ID: 9382240
優質的: 2009
PECVD System
Power supply: 208 V, 63 Amps, 3 Phase, 50/60 Hz
2009 vintage.
PLASMATHERM LAPECVD PM3是一種等離子體增強化學氣相沈積反應器，用於半導體器件制造的薄膜沈積。反應堆設計用於大氣壓力操作，使用射頻感應等離子體增強表面反應，並用於沈積多種材料，包括金屬、合金、氧化物和氮化物。反應堆室由內徑32厘米的石英管組成，通過機械真空泵排空。射頻發電機向產生高頻、低壓等離子體的感應線圈提供射頻能量。感應線圈產生的電場產生均勻密度的等離子體。使用射頻等離子體屏蔽來降低表面充電效果，並在反應堆室內提供額外的氣體均勻性。基板支架由石墨塊制成，以防止材料堆積，同時允許熱量均勻地分布在整個支架上。然後將基板支架懸掛在可調節和可旋轉的安裝座上。這允許基板被加熱，同時允許基板旋轉並暴露在等離子體中。這會產生均勻的材料沈積在基質上。工藝氣體通過單獨的分離氣體入口輸送到工藝室內，以精確控制工藝條件。質量流控制器精確控制過程氣體流入過程腔的流量。過程室內的壓力通過節氣門控制，可以從大氣壓調整到6 torr。靜電卡盤用於在沈積過程中將晶片固定到位。靜電卡盤對晶片施加高壓，產生正負靜電力，使晶片在沈積過程中保持到位。反應堆系統裝有光學高溫計，用於測量底物溫度。基板溫度用高溫計測量，然後由PLC自動調整，使基板溫度保持在用戶指定的極限內。LAPECVD PM3提供了一種在晶片上沈積薄保護層的安全高效的方法。該反應堆為長期穩定而設計，結果一致，使制造商能夠實現高質量半導體器件的增產。
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