二手 ROTH & RAU MAiA #293752398 待售
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ID: 293752398
優質的: 2014
PECVD System
BUSCH Pumps
HAMLET Valves
FESTO Pneumatics
VAT Vacuum valves
SMC Digital flow switches
BECKHOFF PLCs
PHOENIX Power supply units
SICK Sensors
MKS Pressure switches
EATON Contactors, switches and relays
BRONKHORST Mass flow meters
LENZE Electric motors
ELERO Linear actuators
HERAEUS Infrared heaters
MUEGGE Magnetron heads
MUEGGE Microwave power supplies
HAPRO Side channel blowers
(4) COBRA BC 1000 F Pumps
(3) COBRA BC 2000 F Pumps
Coatings and dusts consist of the following substances:
Amorphous silicon nitride, SiNx, coherent layers and dust
Amorphous silicon, dust
Amorphous silicon dioxide, SiOx, continuous layers and dust
Amorphous aluminum oxide, AlOx, continuous layers and dust
2014 vintage.
ROTH&RAU MAiA反應堆是一種尖端的物理氣相沈積（PVD）系統，設計用於半導體、光電、光伏等行業的廣泛應用。該反應堆具有先進的技術能力和高效的設計，能夠精確的膜沈積和優秀的膜質量。MAiA反應堆的核心是其高真空室，為薄膜沈積提供了一個清潔、受控的環境。反應堆設有多個允許多層同時沈積的高精度工藝站，使其適合現代半導體器件和太陽能電池制造所需的復雜多層結構。ROTH&RAU MAiA反應堆的關鍵特征之一是其用途廣泛的基板處理系統，可以容納各種基板尺寸和類型，包括矽片、玻璃基板和柔性基板。這種多功能性使得反應堆適合廣泛的應用，從小規模的研發項目到大批量的生產工藝。MAiA反應器利用一系列PVD技術，包括濺射、蒸發和離子束沈積，沈積金屬、氧化物和氮化物等各種材料的薄膜。這些技術可以精確控制薄膜的厚度、組成和均勻性,從而產生具有優異的電學和光學性能的高質量薄膜。此外，反應堆還配備了先進的工藝控制系統，能夠對關鍵工藝參數進行實時監測和調整，如沈積速率、基板溫度、氣體流量等。這種控制水平確保了薄膜沈積的可重復性和一致性，導致高工藝產量和低缺陷率。此外,ROTH&RAU MAiA反應堆具有高通量設計,能夠快速沈積薄膜,非常適合大批量生產環境。反應堆的模塊化架構允許簡單的定制和可擴展性，使用戶能夠擴展自己的能力並適應未來的工藝需求。總體而言，MAiA反應堆代表了半導體、光電子和光伏行業薄膜沈積的最先進的解決方案。憑借其先進的技術能力、通用的設計和高通量的性能，該反應堆非常適合要求薄膜沈積工藝精度、質量和效率的廣泛應用。
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