二手 STS Pro CVD #9284379 待售
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ID: 9284379
晶圓大小: 8"
優質的: 2005
PECVD System, 8"
Process: Oxide (SiO2)
Silane based Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
(2) Carousel load locks, 8"
CVD Chamber parts for single substrate processing
Top electrode: RF Bias
Process vacuum pump
DI Water chiller
Scholl pump
Single chamber:
Driven electrode: Upto 350°C temperature
Chamber heating upto 100°C via distributed cartridge heaters
Lid assembly heating of 300°C max via a cast block
High deposition rate with high gas flow capability
Chiller
Gas panel type: On board
(6) Gas lines
Load lock pump
Chamber pump
Maxi gas box: C4F8, O2, N2O, SiH4, NH3, N2, Ar, He
Mixed frequency configuration: ENI 13.56 MHz, 300W RF power supply
Dual power supplies:
RF Supply and matching unit: 500W (380kHz) RFPP LF-5
RF Supply and matching unit: 1000W (380kHz) RFPP LF-10A
2005 vintage.
STS Pro CVD是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於先進材料及其表面的實驗室規模加工。該設備能夠生產一系列先進材料的薄膜，包括金屬、氧化物、氮化物、碳化物和其他復雜化合物。CVD工藝的基礎是將前體氣體供應到一個加熱的腔室，在那裏蒸氣與腔室表面反應形成薄膜。Pro CVD系統具有一系列功能,可對高級材料進行精確、安全的處理。該機組設有惰性氣體進氣口、多個排氣口，以及創新的樣品架設計。樣品支架采用獨特的場反轉機構，可在所有類型的基板上可靠、均勻地沈積薄膜。支架還有一個內置流量計，用於有效控制氣流。STS Pro CVD機器配備了能達到1300 °C溫度的大功率加熱元件。該工具能夠在整個腔室中實現均勻的表面溫度,以優化CVD處理。該資產還配備了溫度和壓力傳感器以及推力和速度控制器，用於精確控制工藝參數。Pro CVD Reactor的設計還確保了高效的冷卻,實現了快速的上升/下降和冷卻時間,從而提高了工藝的可重復性。此外，STS Pro CVD Model配備了基於晶體管的控制器和用戶界面。這有助於全面控制過程參數和準確監測過程。用戶友好界面還能夠實時顯示快速更新的過程參數的精確值。Pro CVD Equipment非常可靠且易於維護,是實驗室規模加工先進材料及其表面的理想選擇。該系統設計用於惡劣環境條件下的精確高效運行。該設備還具有能效和低功耗的特點,進一步有助於節省成本。
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