二手 ULVAC CC-200Lt #293759023 待售

ULVAC CC-200Lt是一種先進的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於先進的薄膜沈積和材料加工應用。由全球真空技術領導者ULVAC開發,CC-200Lt提供了無與倫比的性能、可靠性和靈活性,可滿足廣泛的研究和工業需求。ULVAC CC-200Lt的核心是由優質不銹鋼建造的高性能反應器室。該腔室設計用於保持精密薄膜沈積過程所必需的超高真空條件。反應堆室容量為200升，為容納各種基材尺寸和形狀提供了充足的空間，為各種應用提供了多功能性。CC-200Lt具有先進的氣體輸送系統，可以精確控制多種前體氣體的流量。這種精確的控制對於實現均勻的薄膜生長和高質量的材料沈積至關重要。反應堆配有先進的質量流量控制器和壓力調節系統，以確保準確和可重現的工藝條件。ULVAC CC-200Lt的主要特點之一是具有高溫能力，能夠在高達1000 °C的高溫下進行沈積。這種能力對於沈積各種材料至關重要，包括氧化物、氮化物、碳化物和金屬，具有出色的薄膜質量和附著力。高溫操作也有利於晶膜和復雜多層結構的生長。CC-200Lt采用了最先進的等離子體源，以加強沈積過程並實現等離子體輔助CVD技術。等離子體源產生高反應性的環境，促進化學反應並增強膜的性質，例如密度、粘附力和均勻性。反應器的等離子體輔助沈積能力使其成為制造具有定制性能的先進功能塗層和薄膜的理想選擇。反應堆裝有用於等離子體激發的高功率射頻發生器，能夠精確控制等離子體參數，優化薄膜生長動力學。射頻發生器提供了調整等離子體特性（如密度、能量和離子通量）的靈活性，以根據特定的應用要求量身定制膜的微觀結構和性能。ULVAC CC-200Lt采用用戶友好界面,具有直觀的軟件控制功能,便於操作和監控過程參數。反應堆與先進的工藝自動化和配方管理系統兼容，允許高效的工藝開發和優化。反應堆的全面數據記錄和報告能力使得能夠對沈積過程進行深入分析和控制，以實現高質量的薄膜。綜上所述,CC-200Lt是一個最先進的CVD反應器,為先進的薄膜沈積應用提供卓越的性能、可靠性和多功能性。ULVAC CC-200Lt憑借其高溫運行、精確的氣體輸送系統、等離子體輔助沈積能力和人性化界面，是需要卓越薄膜質量和定制的前沿研究和工業應用的理想平臺。