二手 ULVAC DWNT #9055163 待售

ULVAC DWNT是一種廣泛應用於半導體器件生產的高真空擴散型熱CVD反應器。反應堆由一個石英爐、兩個獨立的沈積室和一個擴散室組成，所有這些都在一個系統中連接在一起。基板可以很容易地從石英爐的外部改變，而爐的溫度可以變化和微調。DWNT的擴散室包含三個區域；底部區域用於引入源氣體，並與排氣閥相連。頂部區域是晶片加載的位置,在晶片下方安裝了高溫加熱器。最後，中間區域容納了插入反應氣體的淋浴頭，並配有高速鼓風機，為有效混合氣體制造湍流。反應氣體從ULVAC DWNT的淋浴頭註入，並在到達晶片前通過擴散室擴散。反應氣體的擴散增強了薄膜的均勻性，確保薄膜正確地附著在底物上。反應室可以處理各種過程氣體，包括SiH4、PH3和GeH4。DWNT反應堆可以保持2X10-4至8x10-4 Pa的壓力，它還提供了整個腔室的高水平溫度均勻性，在基板的大區域上達到± 1-2°C的精度。腔室的溫度可以在350°C到900°C之間，這取決於基板。ULVAC DWNT反應器不僅在溫度均勻性方面，而且在控制沈積速率和均勻性方面都非常精確。它能夠產生高達7000 nm/hr的沈積速率，精度± 2 nm。這使得它成為生產先進半導體器件的絕佳選擇。總體而言，DWNT是一種有效、可靠的擴散型CVD反應器，能夠在各種工藝氣體環境下生產出具有高度均勻性的高質量薄膜。高精度和可靠性使其成為任何生產設施的絕佳選擇。