二手 ULVAC EBS-10A #9055245 待售

ULVAC EBS-10A是一種設計用於高精度基板蝕刻和薄膜沈積的低能等離子體反應器。它利用電離氣體（等離子體）在底物上產生強大的化學反應。這允許形成細線寬和高可重復過程的錯綜復雜的電子結構。EBS-10A由高頻電源、控制器、腔室和工藝氣源組成。該室是一個不銹鋼，真空密封環境，能夠處理大氣壓力下降到0.1Torr。它配有直徑6.5英寸的大視口，用於監控基板表面的工藝。反應堆還有一個射頻天線，用來將射頻功率傳遞到腔室。該電源能夠向腔室提供0.2-800W的射頻功率，從而實現各種過程，如蝕刻、濺射沈積、熱蒸發和電子束沈積。再者，控制器允許對包括腔室壓力、蝕刻時間和射頻功率在內的等離子體參數和過程變量進行非常精確的控制。ULVAC EBS-10A還配備了一個氣源單元，能夠以高度精確的比例和流量供應工藝和載氣。該工藝氣體是由一種惰性氣體組成的，如氙氣，用於蝕刻等化學反應。載氣通常是氧氣（O2）或氮氣（N2）混合物，用於控制等離子體密度和表面活化。總之，EBS-10A是一種用途廣泛的高精度反應器，設計用於廣泛的基材加工，包括蝕刻、濺射沈積和薄膜沈積。其特點包括可調節壓力室、強大的射頻源、精確的氣源單元以及用於精確過程控制的控制器。等離子體反應器對非常精細的特性尺寸和高重復性提供了極好的控制，使其成為底物加工的理想選擇。