二手 ULVAC Entron-EX2 W300 #9314077 待售

ULVAC Entron-EX2 W300
製造商
ULVAC
模型
Entron-EX2 W300
ID: 9314077
優質的: 2013
Multi-chamber sputtering system 2013 vintage.
ULVAC Entron-EX2 W300是設計用於半導體器件制造的化學氣相沈積(CVD)反應器。反應堆配備了高效、恒溫、低NOx雙區燃燒器,能夠精確控制工藝條件。Entron-EX2 W300具有多種功能,包括內部和外部氣體混合、集成歧管、長壽命石墨敏感器和多功能控制器。這些特性為用戶提供了極好的穩定性和重復性,使高質量的薄膜沈積以及核殼和多層沈積過程成為可能。ULVAC Entron-EX2 W300使用戶可以輕松地創建各種所需的沈積配方。Entron-EX2 W300利用一個「間歇式」腔室,一次最多可容納四個基板。內室尺寸為915mm(寬)x 545mm(深)x 520mm高度(包括法蘭),並具有915mm x 545mm的傾斜感應板,用於精確的薄膜沈積。磁感器板設計成在整個基板上均勻分布熱量,從而產生均勻的薄膜沈積,而不會引起定向效應。空腔還有一個低矮的石英圓頂和一個中央安裝的氣體入口和出口,減少了加工過程中晶圓周圍的散射量。此外,ULVAC Entron-EX2 W300反應堆有可能配置各種能夠有效優化沈積過程的解決方案。例如,Entron-EX2 W300配備了ULVAC塗層-監視器-COG系統,該系統可以精確測量薄膜和厚膜,並幫助用戶在其基板上實現一致且可重復的沈積。此外,ULVAC Entron-EX2 W300可以配備一個冷卻尾部快門,幫助用戶實現更低的工作溫度和更高的沈積產量。總體而言,Entron-EX2 W300是一個高性能的CVD反應堆,可以幫助用戶進行一系列半導體器件制造過程。通過采用ULVAC高級功能以及用戶友好的安全措施,用戶可以有效地最大限度地提高流程效率並確保高質量的結果。
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