二手 ULVAC Entron-EX2 W300 #9314154 待售

ULVAC Entron-EX2 W300是為半導體生產而設計的等離子體增強熱CVD反應器。它能夠在現代基板上沈積高質量的薄膜，包括矽、氧化物、玻璃和其他先進的結晶材料。Entron-EX2 W300是ULVAC（超低電壓聲學CVD）的最新型號,具有創新和強大的W型 300-MHz等離子體源。這使設備能夠產生超高沈積速率和高溫等離子體CVD工藝。ULVAC Entron-EX2 W300的總體設計非常緊湊,適合實驗室應用和半導體生產運行。它的尺寸僅為480 （W） x 1075 （D） x 905 （H） mm,能夠將材料沈積在150 mm大小的基板上。該裝置具有內置的過程控制界面，用於控制流速、氣體混合物、壓力和溫度。Entron-EX2 W300利用高功率射頻放電和先進的電弧控制系統來提供均勻、高速率的等離子體生產。這保證了均勻厚度的材料膜沈積在不同的基板上，在半導體器件和半導體晶片的生產中產生優異的效果。ULVAC Entron-EX2 W300還具有內置微控制器,用於監視和控制溫度、壓力和流量等參數。Entron-EX2 W300擁有多種其他功能，非常適合半導體器件和半導體晶圓制造。它還采用了陶瓷絕緣設計，將操作過程中的熱量損失降至最低，有助於降低能源成本。此外,ULVAC還采用了一系列熱電冷卻器,實現了一種新型的冷卻系統,以確保設備在長期生產過程中保持冷卻和高效。總體而言，ULVAC Entron-EX2 W300是一種非常先進和可靠的熱CVD反應器，能夠在一系列不同的底物上沈積高質量的薄膜。其創新和強大的W型 300-MHz等離子體源實現了很高的沈積速率和高溫等離子體CVD工藝，ULVAC先進的冷卻系統確保了設備溫度的持續維持以提高能效。其緊湊的設計和多種專業特性，使其成為各種半導體器件和半導體晶圓制造應用的理想選擇。