二手 UNAXIS / OERLIKON / ESEC KAI-1 1200 Gen 5 #9195317 待售
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ID: 9195317
優質的: 2008
PECVD System
Reactor (Industrial glass size):
Version of commercial KAI 1200 machines inside
OERLIKON PV module turn-key production lines
Amorphous and microcrystalline thin silicon film deposition
1.1 m x 1.3 m glass substrates of 2-4 mm thickness
(2) Reactors: aSi, µcSi layer deposition
Load lock
Glass loading table (Extractable to deliver glass into load lock)
Process unit with (2) PECVD reactors
Equipped with ADVANCED ENERGY Cesar 4 kW 40.68 MHz RF Generator
(15) Mass flow controllers
IDEM MFCs
Max temp: 200°C
EBARA Dry pumps
Front loader system
Films deposited:
aSi/µcSi tandem thin film silicon solar cells
With (Containing intrinsic aSi and µcSi films and their carbon-containing /p- and n-doped declinations)
Self cleaning process with NF3 (No residues in both reactors)
Gas supply and pump connected
Spare parts included
2008 vintage.
UNAXIS/OERLIKON/ESEC KAI-1 1200 Gen 5反應堆是一種高性能的先進技術蝕刻工具，可提高各種生產應用的性能。該工具是一件式設計，具有強大的可變功率、先進的均勻性和通量輸送控制功能。它的高分辨率射頻發生器能夠在廣泛的頻率下工作，允許用戶為各種蝕刻應用程序編程過程條件。它還具有集成線圈和負載調節功能,以提供額外的控制。該反應堆是為生產各種電子裝置應用而設計和設計的，包括晶體管柵極蝕刻、鰭形蝕刻和CPW蝕刻。它還具有復雜的負載和線圈調整功能,可優化工藝性能。此外,該工具允許用戶直接從CD、內存棒或通過設備的觸摸屏顯示器輸入配方。ESEC KAI-1 1200 Gen 5反應堆配備了先進的真空管理能力。它具有封閉的圓柱螺旋幾何形狀，為蝕刻過程提供穩定的氣氛。這允許用戶在不同的過程級別繼續蝕刻一致的結果，即使施加壓力。該工具的集成液體噴射系統和射頻發生器對蝕刻工藝性能提供了更大的控制。用戶能夠調整蝕刻化學以及通量水平，以更大的均勻性實現更高的產量。這允許更快、更高效的蝕刻生產過程。此外，該工具采用獨特的水冷系統，為用戶提供更高的效率。最後，UNAXIS KAI-1 1200 Gen 5反應堆的設計考慮了安全性和功率效率。它配備了自動關閉系統，以及防靜電機身。此外,該工具的狀態報告功能使用戶能夠監視和評估設備的整體性能和功耗。
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