二手 UNIVERSAL SACVD Chamber for Delta #293761637 待售

UNIVERSAL SACVD Chamber for Delta是使用SACVD （Spatial ALD-Atomic Layer Deposition Combined with CVD-Chemical Vapor Deposition）技術設計的用於薄膜沈積的先進反應器。這一創新的腔室專門為各種材料在基板上的精確均勻沈積提供了一個通用的平臺，提供了高通量和優良的薄膜質量。Delta反應堆的UNIVERSAL SACVD主室采用不銹鋼等優質材料建造，以確保沈積過程中的耐久性和真空完整性。它具有堅固的設計，可以承受高溫和高壓，以及在薄膜沈積過程中發生的各種化學反應。Delta的SACVD室的一個主要特點是它能夠高精度地控制沈積過程。這是通過先進的氣體輸送系統、溫度控制機制和精確的壓力調節相結合實現的。反應堆配有多個氣體入口、質量流量控制器和壓力傳感器，以精確控制沈積過程中使用的氣體的流量和組成。UNIVERSAL SACVD Chamber for Delta的溫度控制設備允許在沈積過程中精確調整基板溫度。這對於實現理想的薄膜性能和控制薄膜生長速度至關重要。腔室能夠將基板加熱到高溫，並在整個沈積過程中保持穩定的溫度。反應堆的氣體輸送系統旨在確保整個基板表面的氣體分布均勻。這對於在較大的基板區域實現均勻的薄膜厚度和性能至關重要。室內氣體流動模式得到優化，以盡量減少氣相反應，確保前體氣體的有效利用。Delta的SACVD Chamber還配備了先進的抽水裝置，在沈積過程中保持室內的高真空。這對於防止薄膜汙染和確保清潔的沈積環境至關重要。抽水機包括大容量渦輪分子泵和低溫泵，可以達到並維持所需的真空水平。除了精確的過程控制和較高的真空能力外，UNIVERSAL SACVD Chamber for Delta還提供了一個方便用戶的界面，便於操作和監測沈積過程。反應堆配有觸摸屏控制面板，允許用戶設置沈積配方，實時監控工藝參數，分析數據進行工藝優化。總體而言，SACVD Delta室是一個最先進的反應堆，結合了先進的薄膜沈積技術和用戶友好的操作和控制功能。其多才多藝的設計、精確的工藝控制以及高真空能力，使其成為半導體、光學塗層和先進材料行業廣泛應用的理想工具。