二手 VDL R2R #9292764 待售

製造商
VDL
模型
R2R
ID: 9292764
Atomic Layer Deposition (ALD) system R2R Reactor operation Deposition at atmospheric pressure up to 150°C (6) Deposition cycles per drum rotation 0.7 nm Deposited per drum-cycle Web speed: Up to 10 m/min R2R Function: R2R ALD (In the middle) Two coating / Printing stations Two UV curing units Nominal substrate width: 514 nm Gas cabinet Deposition of zinc oxide and zinc sulfide Prepared for aluminum oxide Nitrogen purification Drum allows ALD depositions up to 150°C.
VDL R2R代表真空沈積液體受體對受體,是一種工業反應器,主要用於反應性薄膜沈積和表面工程過程。它涉及使用真空沈積和表面反應的組合來在基板上產生薄膜。R2R有兩個組件:真空沈積單元和基板組件。真空沈積裝置使用各種進料流,這些進料流是根據所需的反應機理選擇的。這典型地包括液體來源如有機金屬、無機鹽和氣態化學物質如四氯化鈦,以及固體前體如金屬氧化物和有機單體。然後將這種蒸氣或液體引導到基材上,基材暴露於沈積活動中。基板組件通常由一個帶有旋轉基板支架的沈積室組成。支架的設計是隨著沈積活動的進行而旋轉基板。這種旋轉有助於在基板上產生均勻的層。同時采用加熱元件維持溫度,防止沈積不均勻。在VDL R2R過程中,基板暴露於反應性薄膜沈積和表面工程操作中。根據所使用的進料流,底物上會發生多種化學反應。例如,如果飼料流中含有有機化合物,就會發生氧化反應,生成薄膜。同樣,還原、聚合、電鍍等反應也可用於修飾底物表面。R2R過程的結果是一個薄膜是均勻的和量身定制的特定應用。可以通過調整沈積參數來控制薄膜的厚度。此外,該工藝適用於各種基材類型,如金屬、陶瓷和聚合物。總體而言,VDL R2R是一種有效的反應薄膜沈積和表面工程工藝方法。其生產均勻量身定制的薄膜的能力使其成為工業應用的理想選擇。
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