二手 VEECO CVC #9307852 待售
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ID: 9307852
PVD System
MX700 TM with loadlock
Aligner
MAG 7.1 Robot
Etch module
DC / RF Deposition module.
VEECO CVC(化學氣相沈積)反應器技術是一種高精度沈積方法,使納米級到微量層的材料沈積到大型基板上。這種設備可以根據需要制造各種元素的納米級層,包括金屬、氧化物和聚合物。它是一個通用系統,允許單個模塊充當晶圓廠管線的沈積、化學計量或蝕刻單元,這些管線使用先進的半導體-從數字到MEM和III-V設備。CVC反應堆機器由一個封閉的腔室、一個加熱的基板和一對連接到氣體管線的操作員控制閥組成。循環開始時,密封腔室,保持預選壓力。凈化氣體用於保持清潔和防止氣體汙染。當它被啟動時,一種載氣,如氦氣、氙氣或氮氣,被送入腔室。適當的反應物氣體以精確的數量和預定的溫度添加到載氣中,確保均勻的薄膜沈積在基板上。反應堆工具在整個過程中被自動監控和控制。VEECO CVC的沈積過程為2至5小時,具體取決於所需的薄膜厚度和類型。在沈積過程中,像二氧化矽、氮化矽等合金這樣的材料被添加到基板上,每一層都經過仔細、精確的控制。沈積層的質量越高,缺陷就越少,這使得亞微米器件得以產生。CVC反應堆技術具有許多優點,特別是在沈積精度和均勻性方面。它還能夠生產具有精確控制的高質量層。它小巧的尺寸使它能夠集成到一系列生產工具的足跡中。此外,其精確的氣體控制能夠實現各種工藝,包括氮化、氧化、蝕刻和沈積,汙染最小,因此非常適合各種應用。VEECO CVC工藝提高了沈積物的質量,因為其均勻的組成和較少的公差接近問題使其適合一系列納米應用。最後,其生產的成本效益使其成為晶圓廠生產線的理想選擇。使用CVC反應器可以改善沈積過程,並導致電性能更好的更均勻的層,可以顯著減少沈積所需的時間。
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