二手 VEECO E475 #293641836 待售

VEECO E475分子束外延（MBE）設備是一種最先進的分子束外延沈積系統，使研究人員能夠對薄膜的分子束分子束外延（MBE）進行多種應用。該裝置能夠以非常精確的控制方式將原子和分子的多個光束引入基板表面，從而能夠將各層沈積在通常用於制造半導體和光電器件的多層結構中。E475機具有1000 amu（=1.67 x 10-27 kg）分子束反應器、渦輪分子泵動器、差動泵動器、8個高電流熱蒸發源以及各種真空計和傳感器。沈積室擁有兩個旋轉階段，溫度選項高達2000 °C （3632 °F）和多種基板，如單晶基板、晶片和納米球陣列。VEECO E475提供了大量的過程參數，可以遠程編程用於原位處理和離線分析。E475模型中的高電流熱蒸發源為各種材料提供了均勻和可重復的沈積，並具有高溫穩定性和控制性。這些源提供高達2000 °C （3632 °F）的可變溫度,精度為0.01 °C （0.18 °F）。該系統的差動抽水設備提供了很高的真空性能，使參數保持在很小的波動。VEECO E475系統還有一個石英坩堝，其設計在2000°C（3632 °F）時最大質量為8克。石英鎘是專門設計的，以盡量減少因溫度突然變化而可能發生的物料再蒸發。E475單元生產的材料具有碳納米管、多晶膜等低溫寬帶隙材料。薄膜的長寬比可以從1到10變化，可以得到最小長寬比誤差為1%。VEECO E475 MBE機中使用的所有部件都裝在一個不銹鋼機櫃內，該機櫃裝有空調、除濕和氮氣凈化裝置，以保持溫度。它還包括通過以太網進行的遠程控制,以便於監控和減振。它還包括安全傳感器，以減少發生事故的可能性。總之，E475分子束外延（MBE）工具是一種先進的資產，可以快速、精確和可重復地沈積薄膜材料層。其工藝可用於半導體和光電工業的應用。它具有廣泛的特性和功能，可提供可靠、可靠和準確的沈積結果。