二手 VEECO / EMCORE E300 GaN #9245409 待售

製造商
VEECO / EMCORE
模型
E300 GaN
ID: 9245409
優質的: 2005
MOCVD Ganzilla system Throughput: 21" x 2" / 8" x 3" Pass-through glovebox With load anti-chamber Components: Gate valve Gauges Valves MFC Pressure controllers (3) YOKOGAWA Temperature controllers (5) DC Power supplies (5) Gas lines (8) Bubbler manifolds Gas line purifiers: Hydrogen Inter Hydride EBARA A70W Series Multistage vacuum pump (2) Real temperature pyrometers (3) Sekidenko Pyrometers Includes: GaN InGaN AIGaN Missing parts: Primary heater Filaments ~2005 vintage.
VEECO/EMCORE E300 GaN是一種高性能、緊湊的反應器,設計用於氮化的沈積和蝕刻(GaN)和其他需要高沈積速率和均勻性的材料。該E300非常適合生產高質量的薄膜塗層和納米級結構。該E300利用以300 W的最大功率運行的低壓感應耦合等離子體(ICP)源。這些源旨在實現更均勻和一致的過程溫度和離子能量,從而提供更高的沈積速率和改進的均勻性。與需要大量氣體和長時間循環的次大氣沈積系統相比,低壓ICP源具有關鍵優勢。該E300能夠精確控制基板溫度,為各種應用提供精確和可預測的溫度控制。腔室底部設有加熱級,允許在環境至500 °C的範圍內進行溫度控制。這允許敏感材料的低溫生長,如GaN和其他III-氮化物。該設備還配備了靜電能源,可以用來使基板受制於一系列工藝條件,改變入射在基板上的離子能量和所得膜層的表面性質。這允許獨特的蝕刻和沈積過程,如能量選擇性沈積(ESD),並在處理納米翅目時提供更大的靈活性。該E300具有最先進的控制系統,具有實時數據監控功能,即使在高溫應用中也能提供精確可靠的過程控制。集成軟件允許全自動操作,並且可以配置為滿足用戶的特定需求。總體而言,VEECO E300 GaN是專門為GaN處理而設計的緊湊、高性能單元。其精確控制基板溫度的能力,以及其精密控制系統的集成範圍,使其成為復雜沈積和蝕刻過程的理想機器,如優質GaN薄膜塗層和納米級結構的生長。
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