二手 VEECO / EMCORE E300 #9283630 待售
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VEECO/EMCORE E300是一種研究水平、低壓、感應耦合的等離子體加工反應器，設計用於蝕刻矽和其他IV類材料。反應堆利用13.56 MHz發生器，除了低壓（1 mTorr至100 mTorr）感應耦合等離子體（ICP）進行蝕刻和沈積過程外，還產生電子回旋共振（ECR）。該反應器適用於快速熱退火（RTA）的蝕刻、沈積和蝕刻/沈積，還提供低壓EC和快速熱氧化（RTO）工藝。VEECO E300有一個最多可容納9種氣體的燃氣箱，其中包括兩個ICP噴射器和一個遙控氣體控制單元。氣體箱提供對等離子體離子和自由基密度的精確控制，這是成功蝕刻矽和其他IV類材料所必需的，不同的材料需要不同的等離子體密度。可以對EMCORE E300中先進的射頻發生器進行微調，在不同材料上達到最佳工藝效果。2kW電源提供了1 mtor至100 mtor的工藝室壓力，而一種新型的氮射頻偏置控制功能使用戶能夠調諧工藝室中等離子體的密度，也增強了工藝的均勻性。發電機也針對大功率沈積過程進行了優化。除了射頻發生器外，E300還提供渦輪分子泵（TMP）形式的壓力控制，可用於維持所需的加工壓力。雙泵的設計可以更穩定的運行，更快的泵送時間和更好的壓力控制。VEECO/EMCORE E300還具有獨特的分裂室設計，將主等離子體反應室和沈積室與冷卻室分開。這允許快速熱退火（RTA）和其他高溫過程,而無需雙冷卻氣室。反應堆還包括集成的紫外線監測系統，以確保蝕刻過程處於最佳狀態。該系統包括一個先進的光學發射光譜室，用於監測蝕刻深度和均勻性。總體而言，VEECO E300提供了一個成本效益高的研究級別系統，旨在處理各種不同應用的材料，從蝕刻、沈積、用RTA蝕刻/沈積到低壓EC和RTO工藝。其卓越的射頻發生器和分室設計提供了卓越的蝕刻均勻性，提高了器件產量和工藝再現性。
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