二手 VEECO / EMCORE E400 #9047867 待售

製造商
VEECO / EMCORE
模型
E400
ID: 9047867
優質的: 2000
MOCVD System Hydride source line: (2) AsH3 (2) PH3 Dopant A Dopant C Includes: Ancillary equipment E400 As/P GaAs 12x4" (43x2" or 19x3" or 5x6") Load-lock (7) MO Source lines (2) Dopant MO source lines Sources: DEZn, TESb, TMIn-1, TMIn-2 TMA1, TMGa-1 TMGa-2, IBuGa (2) Epison III for TMIn Manuals 2000 vintage.
VEECO/EMCORE E400是一種外延金屬-有機化學氣相沈積(MOCVD)反應器,設計用於加工化合物半導體材料,如砷化氙、磷化銨、砷化鋁。VEECO E400是一種多區域、水平管、流過設備,在物理占用空間小得多的情況下,比單區域系統提供更高的精度和可靠性。反應堆的內部熱區前面有兩個預熱區。使用集成的遠程控制系統,熱區可以單獨加熱到100至1000°C的溫度。熱區由上下冷卻腔隔開,設計用於在過程運行期間冷卻熱區。EMCORE E400還具有多點控制功能,可在所有用戶設置和監視的條件下精確控制溫度。該反應器還提供高效和高度可重復的過程控制,具有極好的可靠性和沈積膜的可重復性。E400采用獨特的雙入口設計,允許獨立控制載流子和反應物氣體,以及獨立控制氣體壓力和流量。這確保了整個反應堆的均勻氣體分布,從而提高了薄膜質量和均勻性。VEECO/EMCORE E400還具有集成的高頻等離子體發生器,可提高沈積速率、薄膜均勻性和改進的薄膜性能。這個單元還有助於減少反應堆的汙垢,在線圈和基板上保持一致的功率。反應堆還加入了額外的等離子體預電離特性,降低了沈積速率,並從過程中去除雜質。該工具還具有可選的狹縫噴嘴噴射器組件,以提高工藝均勻性。這種固定噴嘴噴射器組件的創新組合有助於降低氮氣消耗,保持穩態工藝穩定性,最大限度地提高工藝重復性。總體而言,VEECO E400反應堆為用戶提供了改進和可重復的設備屬性、過程統一性以及微調的控制能力。機器在整個過程中保持一致的氣體壓力,確保均勻和可重復的沈積質量。等離子體發生器、可選噴射器和獨立控制的熱區的加入為用戶提供了對MOCVD過程的更高精度和控制,確保了每次運行的最佳設備性能。
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