二手 VEECO / EMCORE E400 #9265828 待售

製造商
VEECO / EMCORE
模型
E400
ID: 9265828
Systems Process: GaAs.
VEECO/EMCORE E400是一種基於交替脈沖激光沈積(APLD)反應器的電子束(電子束)汽化。這種先進的沈積設備可實現薄膜和異構的精確和可重復沈積,用於各種應用,包括自旋電子和光電器件。該系統為薄膜沈積提供了一個高速、堅固、可靠的平臺,對沈積速率和底物溫度等因素具有高度的控制。該裝置采用電子束源對目標材料進行汽化,采用脈沖激光源控制沈積速率。VEECO E400利用獨特的Alt過程控制機(APCS)來精確控制壓力、真空、溫度、沈積速率和其他相關參數。它具有先進的熱電級控制器和自適應增長率控制(AGRC),對增長率提供高度控制。APCS利用前饋機制不斷調整生長和壓力條件,以符合期望的增長率。電子束源集成到腔室中,並具有三軸機械手,允許精確的運動控制適合不同尺寸和形狀的基板。該工具的11軸機械手具有對沈積參數的實時控制功能,並提供反饋信息,使薄膜沈積能夠快速、簡單、可靠。APLD保證了厚層向亞納米厚度的可靠和可重復沈積。該裝置還允許沈積多種材料,包括金屬、氧化物、氮化物、聚合物和其他有機材料。EMCORE E400配備了掃描電子顯微鏡(SEM)和飛行時間二次離子質譜(Tof- SIMS)等各種原位監測系統。這確保了沈積材料的深入表征,並允許優化沈積參數。APLD和SEM的結合,使得不同材料和高度層的高精度和可重復堆叠,以及沈積材料的微觀結構的研究。總之,E400是一種通用的沈積工具,能夠控制和詳細地沈積薄膜和異質結構在各種底物上。其先進的過程控制資產,結合其通用的機械手和原位表征系統,為電子束沈積提供了可靠的平臺。該模型是許多應用的理想選擇,可實現自旋電子和光電器件的高速、精確和可重復的薄膜沈積。
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