二手 VEECO / EMCORE E450 #9283612 待售

VEECO/EMCORE E450反應堆是為半導體應用設計的高精度等離子體蝕刻設備。該系統設計用於制造固態器件、光電子和光學系統。VEECO E450提供了業界最高的性能和最精確的蝕刻工藝。該平臺提供了多種參數、精度、穩定性、選擇性和可重復性，以增強過程控制。EMCORE E450具有先進的等離子體源設計,可在整個晶圓平面上提供均勻的氣體等離子體密度。此功能使設備能夠在各種設備設計中提供最佳的蝕刻性能。源設計使機器能夠提供低離子能量的高蝕刻速率，以及精確的蝕刻寬度控制能力。E450設計為在高壓下有效工作，提供精確的蝕刻選擇性。該工具可配置為可處理各種氣體,包括F2、C4F8、SF6、NF3和CHF3,從而提供了一個通用的蝕刻平臺。此外，VEECO/EMCORE E450能夠提供高蝕刻速率，而不會產生大的等離子體不穩定性。集成的VEECO E450資產包括一個精密的供氣包、一個在蝕刻過程中將中央電極輸送到晶圓平面的高精度機構以及一個集成的硬件接口平臺。該平臺旨在提供與其他模型組件的無縫集成。這使得反應堆可以在各種工藝設置中運行，例如批量和單晶片處理。設備的高精度機構允許對微結構進行精確和可重復的蝕刻。該機構還能夠將中心電極傳遞到晶圓平面，提供優化的蝕刻輪廓並防止邊緣珠。此外，EMCORE E450平臺設計為提供高精度運動控制的低壓晶圓掃描，以精確的輪廓結構。E450平臺提供各種高級過程控制和診斷功能。它還設計用於與廣泛的附件設備接口，如質譜儀、壓力控制器和溫度控制器，允許通用操作。該系統可配置為與外部網絡完全集成以進行數據遙測。VEECO/EMCORE E450平臺旨在提高吞吐量和提高產量。該單元提供自動化的啟動和關閉功能，允許用戶實時監控蝕刻結果，並提供統計過程控制反饋。通用機器具有直觀的圖形用戶界面，允許操作員監視和控制過程變量。此外,用戶還可以存儲數據以供以後查看和分析。總體而言,VEECO E450平臺提供了廣泛的高級功能和功能,使其成為精確蝕刻應用程序的理想工具。高精度機構、先進的等離子源設計、集成的過程控制和監控，使得該工具成為制造半導體器件、光電子、光學系統的理想工具。