二手 VEECO / EMCORE E450 #9363532 待售
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ID: 9363532
晶圓大小: 2"
Systems, 2"
Wafer capacity: Up to (48) wafers
Group III MO sources:
(2) TMGa
(2) TMIn
(2) TMAl
Group V hydride sources:
(2) AsH3
PH3
Dopants MO:
CP2Mg
CBr4
Dopants hydride: H2/SiH4
(2) NESLAB Baths
(7) Lorex piezocons
2-Channels for TMI expendable to 4 (For 2 additional TMG)
EBARA A70W Pump
Exhaust system:
(2) Particle filters
Housing
Phosphorus trap
P-Trap automatic regeneration system loadlock: Loadlock chamber
Glove box
Moisture monitor
Wafer carrier transfer robotic system heater
(3) Heater elements:
Inner
Middle
Outer graphite heater temperature control
Temperature monitor 3-point T/C
YOKOGAWA Controller
3-Point SEKIDENKO pyrometer
Gas monitoring:
Gas leak monitor
Toxic gas
H2 Gas monitor system
Epi Windows 2000.
VEECO/EMCORE E450外延反應器是一種高度先進的化學氣相沈積（CVD）設備，旨在以最高效率優化高性能半導體器件。該系統具有獨特的高溫高壓工藝室，能夠在最短的時間內生產出質量最高的半導體薄膜。VEECO E450反應堆設計采用單升程鐵基爐結構，以達到最大效率和可靠性。先進的雙汽化器控制裝置能夠獨立和同時進行汽化器操作，從而對工藝氣體進行精確的溫度調節。EMCORE E 450的增強型控制機在控制過程氣體流量和預編程配方以實現最佳外延增長方面提供了充分的靈活性。作為先進真空控制工具的一部分，采用惰性氣體凈化氮氣流維持超清潔工藝環境，確保了良好的裝置產量。集成水回路爐提供了整個室內最佳的溫度均勻性，有助於減少汙染和來自工藝環境的顆粒入侵。最先進的反應堆支持直徑可達6英寸的基材尺寸，並使用標準的6英寸晶圓載體資產，便於樣品裝載。E450獨特的「頭入式」機械設計還提供了快速方便的樣品裝卸，最大限度地提高了薄膜沈積的均勻性。細氧化物蝕刻工藝采用獨特、不均勻的輪廓設計，在不影響薄膜均勻性或造成表面損傷的情況下提高蝕刻速率。VEECO/EMCORE E450被認為是生產高質量和堅固的半導體器件的重要工具。先進的高溫工藝控制模式、惰性氣體凈化控制、超靜音真空設備，保證了超清潔環境的最大產量和裝置穩定性。此外，內置爐在整個過程溫度範圍內提供最高溫度和均勻性控制。所有這些特點結合在一起，使VEECO E450外延反應堆成為先進設備制造的無與倫比的平臺。
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