二手 VEECO / EMCORE K465i #293587351 待售

製造商
VEECO / EMCORE
模型
K465i
ID: 293587351
晶圓大小: 4"
優質的: 2010
MOCVD Systems, 4" Power rack (2) Chillers (3) Pumps Monitor PC 2010 vintage.
VEECO/EMCORE K465i是半導體制造過程中使用的高溫單晶圓化學氣相沈積(CVD)反應器。它能夠沈積健康、均勻的氧化亞硝化矽(SiON)和氮化矽(SiN)厚度高達100納米的階梯覆蓋層。VEECO K465i的可重復沈積性能可確保任何應用的高導熱率、光學或機械性能。反應堆可利用NH3和SiH4等反應性氣體進行沈積。它專為高通量而設計,確保整個晶片上的薄膜成分均勻,具有快速、可重復的溫度斜坡速率。總吞吐量通常介於持續溫度高達1000 °C的50W-150W之間。EMCORE K465i規定了精確的溫度斜坡,用於沈積控制.通過控制加熱器元件的精確測序、室內壓力和反應性氣體的流速來完成。它使用兩種不同的加工氣源。一種是幹氮幹氣源,用於通過低溫泵對過程進行冷卻,以快速冷卻氣體,保持室內溫度穩定。第二種提供反應性氣體,包括H2、N2和NH3以及催化劑氣體,如SiH4。通過控制兩種氣體的比例,可以得到精確的材料沈積速率和均勻性。K465i包括幾個關鍵的標準特性,如陶瓷基板槳、測量瞬時基板溫度的高溫計、機械卡盤振動以及用於端點識別的環境傳感器。所有組件均設計為易於集成到制造設施中。VEECO/EMCORE K465i提供了沈積過程的精確度和均勻性。它提供高吞吐量、精確準確的溫度斜坡速率和出色的階梯覆蓋.VEECO K465i具有易於集成、陶瓷基板槳、高溫計、機械卡盤振動和環境傳感器等特點,可在半導體制造過程中高效可靠地沈積氮化矽和氧化矽薄膜。
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