二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375085 待售
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VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN反應堆是一種最先進的高性能生產反應堆，能夠生產金屬氮化物薄膜。該K465i建立在VEECO專利的TurboDisc技術基礎上，是一種單晶圓垂直反應室沈積系統，旨在生產與其他沈積方法無法達到的均勻性和精確度的薄膜。利用其垂直的上下軸，K465i可以同時處理多個晶片，而其先進的沈積控制和腔室設計在生產環境中提供了更好的性能。TurboDisc K465i使用兩級高密度電子回旋共振（ECR）等離子體源以及一種新型的RF偏置系統來提高沈積速率。高密度ECR確保了更高水平的電離和高效的自由基生產，從而實現了更好的表面覆蓋。射頻偏置系統進一步增加等離子體中存在的高能物質的電離水平。這些綜合特征使K465i的沈積速率高達250 Å/min。該K465i是沈積GaN、氧化氙（Ga2O3）和氮摻雜的氧化氙（GaN： O）薄膜的理想選擇。其底腔壓力為2 × 10-9 Torr,先進的工藝步驟可達到1 × 10-8 Torr左右的較低壓力。鎖載室最多可處理6個″晶片，並可提供高達350mm的基板處理。該反應堆還提供了一系列全面的控制選項，例如用於基板照明的四個石英燈、用於幾何效應補償的移位器板以及用於反應性物種控制的氣體入口。這確保了實時過程監測和準確的沈積周期。此外，其用戶友好的觸摸屏界面允許簡單的反應工程。TurboDisc K465i是生產優質金屬氮化物薄膜的技術先進、可靠的選擇。憑借獨特的特點和創新的設計，它是LED、傳感器、內存、功率半導體等應用的理想選擇。
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