二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375122 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN是專門為GaN材料應用設計的下一代沈積反應器。它是一個高性能、超高功率的平臺,可為這些應用提供最佳的材料增長。它具有先進的沈積技術和優化的反應堆平臺，提供了業界領先的沈積速率和無與倫比的薄膜均勻性和過程控制。該K465i采用了最先進的電感耦合等離子體技術，這是優化先進材料加工的關鍵工具。這類等離子體源效率很高，非常適合材料沈積過程，如用於GaN應用的過程。它提供高密度等離子體，電離速度比常規源快，電離穩定性提高，使得GaN薄膜能夠精確沈積。該K465i還具有等離子體源的變頻控制功能，允許用戶精確控制分子在等離子體中被激發和電離的能量。這種增強的控制允許對沈積過程進行精確的控制，從而實現令人難以置信的均勻和高度對齊的分子結構。此外,K465i中的高功率電源可實現高沈積速率,這對於優化生產規模應用至關重要。該K465i配備了熱壁雙噴頭配置，允許兩種等離子體源配置和獨立控制的沈積速率。這樣就能夠以較高的沈積速率對薄膜及其層相關參數進行獨立的同時沈積。此外，雙淋浴頭設計可用於工程晶體結構，大大增強了層棧結構和層厚度的特征控制。該K465i設計為即使在具有挑戰性的條件下也能高效。它能夠在高溫下運行，減少生產周期時間，降低運營成本。它擁有先進的冷卻系統，不需要真空泵，進一步提高了效率。總體而言，VEECO TurboDisc K465i GaN是專門為GaN應用設計的下一代沈積反應堆，提供卓越的性能和過程控制。采用電感耦合等離子體、變頻控制、熱壁雙淋浴臺配置等先進技術，最大限度地提高了沈積工藝效率，實現了極高的沈積速率，薄膜質量異常均勻。這使得它成為GaN材料加工的理想平臺。