二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375124 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN反應堆是一種用途廣泛的下一代氣相外延反應堆,旨在提供卓越的工藝重復性、沈積速率和均勻性。它非常適合研發和生產應用，為生長GaN、AlGaN和InGaN等III類氮化物材料薄膜的工藝提供卓越性能。K465i GaN反應堆是專門為HRM（高速率分子束外延）工藝而設計的，能夠實現極高的沈積速率增長，使其既適合研究又適合商業生產水平。其特殊的設計與傳統的MBE（分子束外延）技術相比有幾個優點，如改進的基板加熱、更廣泛的晶圓尺寸相容性、更高的沈積吞吐量、改進的晶體完美度和工藝重復性。K465i GaN反應堆由幾個組分組成，包括氧化鎂源供應、積液池、冷凍吞噬源、加熱底物支架和兩個渦輪分子泵。氧化鎂源是反應堆中的一個關鍵成分，因為它負責提供前體材料，這些材料將在基板上轉化成薄膜。一個積液細胞保存著源物質，而冷凍吞噬源則產生精確的原子通量，以便在基質上形成薄膜。加熱的基板支架允許薄膜在一定溫度下沈積，而渦輪分子泵則產生真空，以減少沈積室中可能存在的潛在汙染。K465i的GaN反應堆對溫度、生長速率和底物反應性提供了無與倫比的控制。這使得即使結構復雜，也能生產出極為均勻的薄膜。此外，與傳統的MBE機相比，它可以實現極高的增長率，從而大大減少沈積所需的時間。總體而言，VEECO TurboDisc K465i GaN Reactor是研究和生產氮化物薄膜的有力工具。它提供了無與倫比的均勻性和對底片界面的控制，使科學家和工程師能夠精確地利用其結果。它具有出色的可重復性和性能，是實現設備性能卓越、沈積時間少的理想工具。