二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375130 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor是一種專門為氮化零沈積（GaN）而設計的高性能沈積設備。該K465i能夠以10至150納米/分鐘的速率沈積GaN。它是一種生產級沈積系統，具有低變化、高均勻性和突出的沈積過程重復性。這個先進的反應堆具有集成、閉環、氣體輸送、離子輔助、溫度控制和原位過程監測。該K465i由陶瓷氮化鋁陶瓷基板和氧化的襯裏構成，堅固可靠，適用於工業應用。基板安裝在加熱階段，加熱至1000 °C，以利於GaN沈積。離子輔助裝置用於將沈積溫度降低到低於400°C，並可用於建立保形沈積速率剖面。集成閉環氣體輸送單元可以在沈積過程中連續指揮，以便制造出均勻的GaN膜。該K465i采用先進的沈積技術，如原子層沈積（ALD）、分子層沈積（MLD）、等離子體增強原子層沈積（PEALD）等，沈積了超薄膜和優質GaN層。這些技術可用於構建結構，如多莖LED器件和大功率加熱元件。此外，采用PEALD模式，可以達到高達300 nm/minute的更高沈積速率。該K465i是生產薄質高質量GaN層的理想沈積機。先進的工藝監測能力允許精確控制沈積參數，集成閉環氣體輸送工具保證了一致的GaN沈積速率和均勻性。此外，先進的反應堆體系結構確保了產品的壽命可靠性和結果的可重復性。