二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375133 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor是一種先進的等離子體處理系統,設計用於半導體器件制造的薄膜沈積。它是一個高通量、高通量率的系統，由線性電動機、多室源快門配置以及最先進的氣流控制器和溫度控制器組成。該反應堆采用專有工藝，結合獨特的淋浴頭設計和優化的等離子體化學，提供非常均勻和保形的薄膜，具有優越的邊緣輪廓和出色的底物溫度控制。該K465i利用具有完全集成匹配網絡的高功率GaN射頻（RF）源,可以在25 MHz的恒定頻率或高達60 MHz的可變頻率下運行。利用其強大的射頻發生器，K465i可以產生用於各種沈積過程的等離子體，包括氧化物、氮化物和金屬，具有低溫和高通量。該系統利用創新的等離子體源，包括專有的TurboDisc技術，以確保在大型基板上的高均勻性和保形性。集成匹配網絡提供了優化的功率傳遞，保證了沈積結果的均勻性和可重復性。K465i的均勻性、可重復性和溫度性能使其能夠獲得與使用更昂貴和復雜的技術所獲得的工藝結果相當的工藝結果。此外,VEECO K465i的設計盡可能具有可擴展性和靈活性。它可用於中小型批處理項目的單工具配置,以及用於大型試點運行的多工具配置。它的模塊化構造和靈活的設計使它能夠輕松地與其他設備如機器人處理程序、計量或定制夾具集成，以便快速發展。此外，使用多室和定制配方使K465i能夠同時為多個應用制作不同類型的薄膜，為用戶提供快速高效滿足其生產需求的能力。綜上所述，VEECO TurboDisc K465i GaN Reactor是一種先進的等離子體反應器，它將創新的等離子體源技術與無與倫比的均勻性、可重復性和溫度控制相結合，用於半導體器件制造的薄膜沈積。它具有可擴展和靈活的體系結構,使客戶能夠快速輕松地將其集成到生產線中,而其強大的射頻發生器則使其能夠生產各種質量優越的沈積材料和工藝。