二手 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i #9223149 待售

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i是一種高功率、RF驅動的化學氣相沈積（CVD）反應器。它是一種半導體制造裝置，設計用於生長薄膜，如SiO2，SiN，以及最近的石墨烯。該K465i采用專利的「電梯」設計，允許半導體材料逐層生長。K465i的物理構造是一個「電梯」組件，它允許將晶片放置在腔內，整個腔內被升高和降低，從而沈積層。TurboDisc利用電子回旋共振（ECR）在150°C至650°C的溫度下產生自由基和活性物質。它為沈積過程帶來了相當大的熱力預算，並為沈積反應堆中可以處理和控制的物質清單增加了一系列新的化學物質。為了利用這一溫度範圍，ECR使用了兩級磁控管。Dual Magnetron級允許在晶圓表面產生等離子體，並獨立控制主環和偏置環。它還具有X-Y轉向能力，簡化了基板載荷。K465i的標準安全功能符合半導體安全法規,12X大於行業標準。腔室安全殼、減壓閥、差壓真空計、排氣管線和電動手動關閉速率均符合半導體標準。該K465i采用FEST，這是一個過程控制系統，旨在積累和模塊化配方，監測過程參數，並導致高過程重復性。FEST將相關食譜分類到文件夾中,以便於檢索。對氣流、壓力、真空、晶圓溫度、基板偏置等相關工藝數據進行了自動測量和記錄，可方便地與工藝優化和改進結果相關聯。從制造的角度來看，該K465i在半導體行業已經證明了自己的操作簡便性、高吞吐量和良好的工藝控制。其「電梯」設計減少了基板裝載時間，有助於實現高產。雙磁控管特性增加了等離子體強度，同時降低了電子能量，提供了優異的等離子體輪廓均勻性。集成的FEST過程控制包提供了對過程配方的全面分析和完善的優化。所有這些特性及其出色的安全特性使K465i成為半導體制造應用的理想工具。