二手 VEECO TurboDisc E475 LDM #9401869 待售
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ID: 9401869
優質的: 2010
MOCVD System
High-brightness LEDs: Red, orange and yellow
Multi-junction III-V concentrator solar cells
Operation: 200 300 Epitaxy
Control PC
Electrical and control part
Gas panel part
Reactor part
EBARA ESA70WD
Dry pump
Includes:
As/P Growth chamber
Growth chamber exhaust system
Load lock and platter transfer
Load lock exhaust system
Glove box
Water cooling assembly
Dual Phosphorous trap assembly
Hydrogen detector
System electronics and control modules 380 V
EpiView Local control interface
(7) Liquid refrigerator baths
(9) SS Bubbler legs, 1/8"
Gas panel
In-Situ monitoring system:
(3) REALTEMP 200 Monitoring systems
IDRT/RT Local control assembly
Step up platform
Custom gas panel controller bubbler:
DETe
DMZn
(2) TMIn
(2) TMGa
TMAI
CBr4
TBA
Disilane
Dilution network source manifold (Single bubbler)
Hydride:
Dopant1: Dislane
Dual input Hydride with single standard and single dilution network manifold
Dopant2: Dopant single input Hydride
2010 vintage.
VEECO TurboDisc E475低密度金屬化（LDM）反應器是為生產厚膜、高性能電子器件而設計的工具。它用於使用低壓等離子體活化化學氣相沈積（CVD）工藝將金屬膜沈積到基板上。該設備利用獨特的熱旋轉圓盤在大面積上形成均勻的薄膜沈積。該反應堆經過專門設計，具有較高的通量和可靠性，是半導體器件批量生產的理想選擇。該系統由一個工藝室、上盤和下盤板組件、底架以及對準和控制系統組成。E475反應堆工藝室具有短氣線配置，允許快速、精確的氣體輸送和快速啟動。該室配有晶圓輸送和支撐，以及氣體分配歧管。圓盤采用高性能鋁合金制成，提供出色的熱力和機械穩定性。圓盤可以以高達3500 rpm的轉速旋轉，最高溫度約為400°C。該單元設計用於金屬膜的沈積，包括銅和鋁金屬化、屏障層和粘合層。具有良好的均勻性和高沈積率的高性能薄膜沈積能力。該機提供了對薄膜厚度和附著力的精確控制，提供了高度的工藝和材料一致性。該E475還包括允許用戶精確調整沈積參數的過程監測和控制系統。用戶界面利用直觀的圖形運算符界面來簡化流程的設置、啟動和監控。該工具包括一個安全登錄和一個審計跟蹤，這使得它更容易跟蹤流程數據和結果。反應堆還設計滿足嚴格的安全要求，降低事故風險，提高工作場所的安全性。E475 LDM反應堆是制造高性能、可靠電子設備的理想工具。憑借其先進的設計和可靠的性能，它被設計用於較低的整體維護要求，使其成為小規模生產和大規模量產的有效工具。
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