二手 VEECO TurboDisc K465 GaN #9410043 待售

VEECO TurboDisc K465氮化氙（GAN）反應器是一種等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）設備，旨在為基於GaN的半導體器件的生產提供高效和嚴格的沈積工藝。它提供了過程靈活性和可重復性,以確保高產量和優異的設備性能。該系統非常適合包括晶體管、肖特基二極管、HEMT、高功率器件和激光二極管在內的應用。K465反應堆采用圓形結構，形成水平或垂直圓盤，具體取決於最終用戶的需求。這種獨特的設計使先進的均勻性結構能夠保證卓越的均勻性和沈積率。氣體分配單元采用單個氣體噴射器，多個擴散噴射口分布在工藝室的周長周圍。這種設計最大限度地提高了氣體在整個腔室中分布的均勻性。另外，TurboDisc K465反應堆配備了多級、低壓）線性快速泵/粗加工泵機，用於高效、精確的壓力控制。歧管由不銹鋼制成，使用壽命更長。TurboDisc K465等離子體反應堆的特點是等離子體範圍廣，過程溫度高達1000 °C。能精確沈積AIN、AlGaN、AlN、GaN、InGaN等復合半導體，沈積速率高達45 nm/min，均勻性極佳。其專利底物旋轉技術和廣泛的功率範圍允許優化沈積工藝條件，以產生高質量和均勻性的外延層。TurboDisc K465反應堆工具具有高度直觀和用戶友好的圖形用戶界面，可提供視覺反饋，並允許輕松快速地調整工藝參數。此接口還允許進行有用的數據采集和過程開發活動。VEECO TurboDisc K465 GaN反應堆是制造先進的基於GaN的半導體器件的可靠、高性能沈積資產。其獨特的特性、過程靈活性和可重復性，以及圖形用戶界面，使其成為行業、研究和開發需求的理想選擇。