二手 FEI / TECNAI F20 X-TWIN #9151726 待售

FEI/TECNAI F20 X-TWIN是一種用於高分辨率成像和分析的掃描電子顯微鏡。其側向系數為0.25nm（納米），深度分辨率為0.065nm（納米）。這種精密的電子顯微鏡結合了肖特基場發射（FE）和場發射轉移（FET）技術，提供增強的分辨率和圖像對比度。FEI F20 X-TWIN由一個包含一對高壓電源的顯微鏡柱和一個支持電子光學的磁場翼組成。它還配備了一個樣品級，專門設計用於在各個方向和變速下移動樣品表面，以實現高度精確和精確的成像。TECNAI F 20 X-TWIN除了傳統的SEM應用之外，還提供高級成像功能，如X射線和電子斷層掃描。它還允許用戶對使用FET技術無法在SEM中檢查的非導電材料和樣品進行成像。它具有高清CCD電子探測器和集成的電荷還原真空穩定系統，以有效減少充電偽影。這款電子顯微鏡的一個重要方面是其EvolutionTM顯微鏡控制系統，它為多種應用提供了用戶友好的環境和全面的成像能力。它為更高級的分析，如能量色散X射線光譜（EDS）、能量濾波（EFS）和反向散射電子成像（BSEI）提供了附加附件。此外,其電動液氮冷卻矽漂移檢測器（SDD）提供了廣泛的元素分析功能。這種特性對於諸如半導體工業中使用的那些需要精確測量元素比率和數量的材料特別有用。總體而言，F20 X-TWIN是一種高度專業化的掃描電子顯微鏡，用於高分辨率成像和分析。由於其SCHOTTKY現場排放和現場排放轉移技術，它提供了出色的分辨率和圖像對比。其EvolutionTM顯微鏡控制系統支持輕松操作,並提供強大的成像功能以及各種附件,以滿足更高級的分析要求。因此，FEI/TECNAI F20 X-TWIN在先進材料和半導體應用方面是同類產品中最好的之一。