二手 HITACHI NE-4000 #9260762 待售
網址複製成功！
ID: 9260762
優質的: 2011
Electron Beam Absorbed Current (EBAC) characterization system
Driving method: Piezoelectric
Fine stroke range: 5 µm (X,Y)
Coarse stroke range: 6 mm (X,Y)
Specimen stage / Base stage
Specimen size: 25 mm × 25 mm × 1 mm Thick or less
Traverse position: Measurement / Specimen exchange position
Specimen exchange: Air-locked exchange chamber
Prober navigation:
Stage traverse to probe position
Measurement position memory
Probe coarse adjustment:
CCD Image display: Image display from lateral direction
Electron optics:
Electron gun: Cold field emission electron source
Accelerating voltage: 0.5 kV to 30 kV
Resolution: 15 nm (at 2 kV, WD: 15 mm)
Image shift: ±150 µm (at 2 kV, WD: 15 mm)
EBAC Amplifier / Image display:
Amplifier type: Current amplifier / Differential amplifier
Image display: SEM / EBAC (Single / Parallel / Overlay)
Image processing:
Black and white reversal display
Color display
Brightness adjustment
Slow scan integration
Belt scan
Utility:
Room temperature: 15°C - 25°C
Humidity: 60% RH or Less
Grounding: 100Ω or Less
Power supply: AC 100 V, ±10% 5 kVA (M5 Crimp terminal)
2011 vintage.
HITACHI NE-4000是一種用於研究和工業分析的掃描電子顯微鏡（SEM）。該設備配備了數字斷層掃描，提供了出色的放大倍率和多種多樣的成像能力。憑借高分辨率掃描功能和集成的圖像分析系統,NE-4000能夠對分辨率高達0.35 nm的微結構進行精確成像。顯微鏡具有專用的物鏡，旨在最大限度地提高成像效能和性能。為電子束提供了一個超高頻電源，以確保穩定性和重復性。顯微鏡的其他特征包括一個標本塗層放電源、一個最高溫度為540°C的樣品室、一個柱內光束遮擋器和一個電子槍控制單元。HITACHI NE-4000單元還具有全自動的標本處理機，可用於安裝和引入標本進行分析。該工具允許用戶對標本進行高分辨率掃描，並對標本位置和放大倍率進行精確控制。在自動資產到位的情況下,顯微鏡可用於映射、3D成像、相關顯微鏡等多種應用。該型號的高精度成像性能通過使用CCD相機設備進一步增強，該設備直接與顯微鏡相連。該系統能夠捕獲高達2500萬像素的數字圖像，並具有令人印象深刻的詳細程度。圖像也易於處理，因為該單元與各種用於圖像分析和處理的軟件包兼容。NE-4000機還配備了高速掃描階段、智能圖像處理、高分辨率數字成像等一系列信號處理、成像和測量工具，以提高成像性能。此外，顯微鏡還能夠實時顯示3D圖像，這使得該工具特別適合工業檢驗和研究實驗室應用。總體而言，HITACHI NE-4000是納米級微結構高分辨率成像的理想選擇。憑借其先進的成像能力和自動化的標本處理，它能夠提供精確的圖像，具有出色的細節水平和準確性。該資產設計方便用戶，易於使用，是研究和工業應用的絕佳選擇。
還沒有評論