二手 HITACHI RS-4000 #9036353 待售
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ID: 9036353
Scanning electron microscope (SEM), 8"-12"
Includes:
Process evaluation: Litho, etch, CMP
Beam tilt: 10°
Laser darkfield microscope, EDX 15 kV
SEM:
Ip = <10pA ... 200pA
Darkfield OM:
Laser scatterlight (B/W)
Field of view (ca.): 620 um (220x)
Illumination level: Manually adjustable
For particles >1 um strong interference patterns appear
CCD Bad pixel calibration possible: No
Brightfield OM:
Field of view (ca.): 620 um (220x)
B/W only
Cassette interface:
(2) 12" Load-ports
8" Load ports: No
Robot handler (single end effector)
Status lamp (R/Y/G/B)
GEM/SECs
Sub-Fab (supporting) equipment:
Equipment rack (power box)
(2) BOC EDWARDS EPX-180LE Dry pumps
(1) Cryo tiger cryo compressor
EDX (Option), 15 kV:
Automatic defect re-detection
Automatic defect classification
Vacc: 500 V - 5 kV (auto.), resp. 15 kV (man.)
SEM Pixels: 512 or 1024
SEM Magnification minimum: 1000x (140 µm FOV)
SEM Magnification maximum: 200000x (0,7 µm FOV)
Detector SEM:
Left topography (BSE)
Right topography (BSE)
SE
VC
Image display SEM: Live and average mode
OM: DF + BF
OM Magnification:
220x (ca. 620µm)
440x (by digital zoom)
Tilt: 10° (beam tilt)
Stage rotation: No
Stage accuracy: +/- 1µm
Image resolution SEM: 3.0 nm (800 eV)
Auto EDX: Yes
Defect sensitivity
MTBF: 1000 Hrs
Downtime per month: 6 Hrs
Particle contamination
Front side: Maximum 7 adders >0.16µm
Back side:
Maximum: 3500 adders > 0.2µm
Maximum: 100 adders > 5.0 µm (incl. clusters)
Throughput:
10 Wafer / h (50 Defects)
900 Defects+ADC/h (1wafer)
Manual loading without defect file: Yes
FIB Vacc: No FIB
Milling accuracy
Milling frame size
Measurement requirements:
AST in current software: No
Lowest SEM magnification: 1000x
Maximum voltage for automatic ADR and EDS 5kV
15kV for manual EDS
Minimum voltage 500V
Image mixing: Ok
Manual loading without defect file: Ok
NORAN System: (6) EDS will be offered
Stage resolution: Ok
Beam tilt: 10°
Image resolution at 800eV: 3.0nm
230 VAC (6kVA), Single phase, 50 Hz
CE Marked
Currently stored in clean room
2005 vintage.
HITACHI RS-4000是一種掃描電子顯微鏡（SEM），使用聚焦電子束來創建圖像，用於可視化和分析多種材料。采用先進的能量過濾技術，對樣品的地形和化學成分進行了最佳對比。此外，它使用掃描束能量色散X射線（SBEDX）來測量樣品的元素組成。顯微鏡具有多光譜成像模式，能夠在不同波長下同時獲取四個不同的圖像，從而能夠完全可視化樣品的物理、化學和結構特性。HITACHI RS 4000提供超高分辨率成像,具有廣泛的物鏡放大倍率-高達500倍。集成的自動柱頭功能可以方便地調整電子束,同時無需手動調整。它還有一個內置的遙控設備，可以對系統進行遠程監控和操作。除了高分辨率成像外,RS-4000還提供多種分析功能。它可用於測量大面積的表面地形、層厚度和3D樣本參數。它還具有表征標本塗層的能力，如薄膜、玻璃和金屬，使用X射線熒光、能量色散X射線光譜（EDS）和電子反向散射衍射（EBSD）。RS 4000用途廣泛,可用於多種應用,包括材料表征、冶金研究、微電子學、醫學研究和法醫調查。它具有幾個先進的特點，包括用於高分辨率二次電子（SE）成像的探測器、準反向散射（QB）成像，以及一個超高分辨率、大視場反向散射電子（BE）探測器，這使得能夠在一次掃描中獲取地形和化學信息。HITACHI RS-4000專為易於使用而設計,其開放式體系結構允許快速集成到自動化流程中。該單元用戶友好,具有用於設置實驗、控制掃描運行和查看數據的直觀軟件。此外,該機器還提供各種支持服務,從維護和培訓到軟件開發。用戶友好的設計和高級功能使HITACHI RS 4000成為需要具有可靠性和靈活性的SEM功能的實驗室和研究中心的理想選擇。
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