二手 JEOL JBX-5500FS #293775451 待售
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ID: 293775451
優質的: 2013
E-Beam lithography system
Electron emitter: TFE (ZrO/W)
Acceleration voltage: 50 keV
Beam current: 30 pA - 20 nA
Field size: 100 µm, 1000 µm
Beam scanning speed: 12 MHz
Manual loader
Wafer holder, 4"
XY Stage
Dry pump
Vacuum pump
Valves
Clean Dry Air (CDA)
Beam shape: Circular spot
Gas: SF6
Stage movement: 104 x 75 mm
Emitter non-functional
Cooling water system:
Flow rate: 6 L/min
Pressure: 0.15 to 0.5 MPa
Temperature: 15° to 32°C
Writing modes:
Accelerating voltage / Objective lens / Maximum write field size / Minimum E-Beam size
25 kV / 4th Lens / 2000 x 2000 µm² / 10 nm
50 kV / 4th Lens / 1000 x 1000 µm² / 5 nm
25 kV / 5th Lens / 200 x 200 µm² / 1 nm
50 kV / 5th Lens / 100 x 100 µm² / 0.5 nm
(3) Cassettes:
BX-Z12016TMPC/S
BX-Z12017TMPC/S
BX-Z0714507W2T
Liquid crystal display
Hard Disk Drive (HDD)
Workstation
PC
Operating system: Windows XP
Manuals included
Power supply: 100-200 VAC, 50/60 Hz
2013 vintage.
JEOL JBX-5500FS是一款前沿掃描電子顯微鏡（SEM），在高分辨率成像、精確制圖、先進納米加工能力等方面設定了新標準。該儀器專為材料科學、半導體研究、生物工程和納米技術等多種應用而設計。JEOL JBX-5500 FS的核心是其電子光學設備，該設備裝有場發射電子槍，能夠產生具有亞納米分辨率的高度聚焦電子束。這使得顯微鏡能夠實現卓越的成像性能，以驚人的清晰度和精確度捕捉到詳細的表面地形和超細結構。高亮度電子源還允許增強信號檢測和靈敏度，使其成為低對比度或低原子序數元素成像樣品的理想選擇。JBX-5500FS的一個關鍵特征是它的多用途制圖能力，這是通過使用高精度電子束光刻系統實現的。此功能使研究人員能夠在分辨率低於10 nm的各種基板上創建定制設計的納米結構和圖案。該儀器支持多種光刻模式，包括直接書寫、接近和投影光刻，使用戶能夠靈活地根據自己的具體需要量身定制其制圖方法。借助先進的自動化和控制系統,JBX-5500 FS提供了一個用戶友好的界面,可簡化操作並確保實驗過程中的可重復性。顯微鏡配備了用於圖像采集、分析和數據處理的精密軟件工具，使用戶能夠快速生成高質量的圖像，並獲得對其樣本的寶貴見解。此外,該單元的直觀編程功能可輕松創建復雜的光刻圖樣,從而促進快速原型設計和高效的設備制造。在納米加工能力方面，JEOL JBX-5500FS擅長生產高長寬比和精確尺寸的復雜納米結構。機器可以沈積和蝕刻多種材料，包括金屬、聚合物和氧化物，使研究人員能夠為廣泛的應用創造復雜的三維結構。此外,顯微鏡在制造過程中支持現場監控和實時反饋,確保對特征大小、形狀和對齊方式的準確控制。JEOL JBX-5500 FS還配備了一系列先進的成像和分析技術，以增強其多功能性和功能。其中包括用於元素分析的能量色散X射線光譜（EDS）、用於晶體學表征的電子反向散射衍射（EBSD）和用於研究材料光學性質的陰極發光（CL）。通過將這些成像模式與其高分辨率成像和光刻能力相結合，顯微鏡為用戶提供了一套全面的工具，用於深入的樣品表征和操作。總體而言，JBX-5500FS是一種最先進的掃描電子顯微鏡，它體現了精度、性能和多功能性。其先進的電子光學、高分辨率成像、精確的圖樣和精密的納米加工能力，使其成為從事多種科學技術領域工作的研究人員和工程師不可或缺的工具。無論是研究納米級現象、制造定制納米結構還是表征先進材料，JBX-5500 FS都能提供無與倫比的成像質量和分析能力，推動納米科學的創新和發現。
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