二手 LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus #9228860 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9228860
Electron beam lithography system
Beam generation:
Cathode: Thermal field emitter (TFE)
Schottky emitter (SE)
Beam deflection:
Method: Spot beam recorder, vector scan
Large field: 1,000 x 1,000 lbs gm2
Addressing: 20 bits main field, 14 bits sub field
Minimum address increm: 1 nm
Maximum frequency: 50 MHz
Automatic corrections
Stage:
Laser interferometer: 1024 (~0.6 nm)
Writing area: 150 x 150 mm^2
Substrate size: Up to 6"
Miscellaneous
Cassette: 10 Positions
Mechanical steaming system: Piezo active
Operating system: Linux Redhat 5
Pre-alignment microscope
Size / Thickness
3" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
4" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
5" Square / Mask / 90 mil / 2.5 mm
6" Square / Mask / 250 mil / 6.35 mm
3"-5" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
2" Round / GaAs wafer / 300 µm – 500 µm / 1,0 mm
3" Round / GaAs wafer / 500 µm / 1.0 mm
36 m Square / GaAs wafer / 500 µm / 1.0 mm
4" Round / Si wafer / 500 µm / 2 mm
4" Round / GaAs wafer / 600 µm – 700 µm
6" Round / GaAs wafer / 600 µm – 700 µm
Power supply:
High voltage: 20, 50, 100 kV.
LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus掃描電子顯微鏡是現代顯微鏡中的領先儀器。它具有高分辨率成像能力，具有一系列特征，可以進行精確的觀察和測量。EBPG 5000 Plus使用電子束對正在研究的樣品進行掃描成像，電子光學設備提供出色的圖像清晰度、分辨率和聚焦深度。LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus包括提供圖像處理功能的先進軟件,如表面渲染和樣品的3D重建。此高級軟件還允許處理圖像屬性,如亮度、對比度、縮放和分辨率。圖像的進一步分析可以通過軟件工具實現，包括粒子分析、粒徑和厚度測量。EBPG 5000 Plus還包括幾個硬件組件，包括列內SE探測器、ESEM探測器、ESEM/Q傳感器和雙槍系統。列內SE探測器能夠獲得高放大倍率和高分辨率的圖像，而雙槍單元則能夠同時成像兩個不同的電子發射。ESEM檢測器檢測二次電子，用於對非導電樣品進行成像，如生物物質，而ESEM/Q傳感器則提高了大面積的分辨率和對比度。LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus也有真空機提供電子顯微鏡操作所需的真空環境。該工具對氣體具有耐受性，因此可用於研究包括大氣敏感樣品在內的多種樣品。真空抽水設備還提供了真空外殼的最小振動，能夠以高分辨率和鮮明對比度拍攝圖像。總體而言，EBPG 5000 Plus掃描電子顯微鏡是顯微鏡的強大工具，使研究人員能夠以高分辨率、準確率和速度觀察和測量材料。它的各種特征和組成部分允許對標本進行廣泛的分析和檢查，使其成為實驗室和研究環境的理想選擇。
還沒有評論