二手 LEICA VB6-HR #293793423 待售
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ID: 293793423
優質的: 2002
E-Beam lithography system
Load lock with vacuum system
Automatic control
XY Stage
Plinth
Chamber
Beam forming electron optical column with control system
Beam deflection system
Pattern generator
Pattern data handling system
Operator interface
Keyboard with distributed micro processor sub system controller
(2) Column electronic control racks (CER1 and CER2)
Main control CPU
Disks
Electron optical column:
Electromagnetic alignment coil
Blanking plate assembly
Stage and holders:
(2) Axis helium neon laser interferometer positional measurement system
Automatic robot loading mechanism
Co-planar with substrate image surface
X-Ray mask plate
Wafer piece part
Non standard substrate
Monitors and control:
Transmission detector
Knife edge target mounted
Substrate holder
Beam diameter assessment
Focal plane detector
Focal plane range: ±100 µm
Temperature measurement transducers
Stage and ambient temperature
Logging temperature stability system
Vacuum system:
TFE Electron gun emission chamber
(2) 45/20 I/s Ion pumps
510 I/s Turbomolecular pump
Pattern preparation functions: Computer-aided transcription system (CATS)
Drive method: Direct coupled rack and pinion
Prime method: Stepper motor
Workstage/chamber:
Traverse distance:
X=153 mm
Y= 165 mm
Max velocity:
X>10 mm/s
Y>5 mm/s
Step response:
400 µm X step in 250 MS
400 µm Y step in 500 MS
Positional measurement interferometer: Dual frequency laser
Measurement resolution: 0.62 nm
Measurement arrangement: (2) Axis systems
Beam correction range (BEF): ±20 µm
Thermal control: Water circulator / Stabilizer units
Holder mounting jig: Simplify insertion of substrates
Transfer cycle: <2 min
Pump down time: <10 min for standard airlock
Sub state handling:
Maximum patterning area: 152 mm x 152 mm
Calibration targets:
Mounted holder co-planar with substrate
Focus and stigma ion control
Alignment microscope:
Optional microscope with X/Y table for pre-alignment
Electron optics:
Gun type: Thermal Field Emission (TFE)
Zirconated tungsten cathode
Cathode life: >4000 hr
Beam current density 50 kV: >1000 A/cm
Condenser zoom lenses:
C1 Electrostatic
C2 Electromagnetics
Objective lens: C3 Electromagnetic
Beam energy range: 2050 and 100 Kev Calibrated
Stigma ion: (8) Pole electromagnetic
Beam current range: 100 PA to 200 NA
2002 vintage.
LEICA VB6-HR是顯微鏡領域的知名品牌LEICA Microsystems制造的高分辨率掃描電子顯微鏡（SEM）。這種先進的成像工具旨在對納米級的各種材料進行詳細的表面分析和表征。VB6-HR模型配備了尖端技術和功能,使研究人員、科學家和工程師能夠以卓越的清晰度和精確度探索、可視化和分析樣品的微觀結構。在LEICA的核心VB6-HR SEM是一個復雜的電子光學系統，產生一個高能電子束與被研究的樣品相互作用。電子束在樣品表面掃描，電子與樣品中原子的相互作用產生信號，用來形成分辨率和景深突出的圖像。VB6-HR能夠對放大倍數從幾十到幾十萬倍的樣品進行成像,從而能夠在亞微米級詳細檢查表面地形、形態和組成。LEICA VB6-HR的主要特點之一是其高分辨率成像功能。結合先進的電子光學、探測器和信號處理算法，這種SEM能夠實現亞納米空間分辨率的超高分辨率成像。這種細節水平對於分析納米結構、納米顆粒、薄膜和表面塗層等納米級特征至關重要。VB6-HR擅長捕捉樣品地形的細微細節和細微變化，為研究材料的微觀結構特性提供了寶貴的見解。除了高分辨率成像之外,LEICA VB6-HR還提供了一系列分析功能,以支持全面的材料表征。SEM配備了多種探測器，用於成像和分析不同類型的信號，包括二次電子（SE）、反向散射電子（BSE）以及樣品產生的X射線。這些信號可用於獲取元素組成信息、晶體學數據以及樣品表面的地形特征。VB6-HR還具有能量色散X射線光譜（EDS）和電子反向散射衍射（EBSD）系統,分別用於高級化學和晶體學分析。此外，LEICA VB6-HR是為用戶友好操作和直觀控制而設計的。顯微鏡的軟件界面允許用戶輕松調整成像參數，選擇成像模式，以最小的努力優化圖像質量。該系統還提供自動成像例程、舞臺導航工具和圖像處理功能,以簡化數據采集和分析工作流程。此外,還可以將VB6-HR與外部附件和外圍設備集成在一起,以實現擴展功能,例如用於現場實驗的環境室、用於樣本操作的操縱器以及用於自動圖像分析的軟件模塊。總之，LEICA VB6-HR是一種最先進的掃描電子顯微鏡，它為高分辨率材料表征提供了無與倫比的成像和分析能力。憑借其先進的電子光學、探測器和分析工具，這款SEM非常適合材料科學、納米技術、地質、生物學和其他需要在納米級進行詳細表面分析的研究領域的廣泛應用。VB6-HR結合了卓越的圖像質量、分析多功能性和用戶友好的操作,以滿足微米和納米米級成像和表征材料的最苛刻的研究和工業要求。
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