二手 NANOBEAM nB5 #293648795 待售

製造商
NANOBEAM
模型
nB5
ID: 293648795
E-Beam lithography system Beam size: 2.1 nm, 100 keV, 7 nA Metal lift off line width: <20 nm Address grid resolution: 1 nm, 1nm main field Beam voltage: 30 to 100 keV Writing area: 195 x 195 mm.
NANOBEAM nB5是一種高性能掃描電子顯微鏡(SEM),旨在提供更高精度和精確度的研發。它提供高分辨率成像的樣品小到1納米跨越和特點的最新電子束工程。nB5創新的NANOBEAM設計由先進的電子控制設備提供動力,這是由於電子光學技術和微調算法取得了突破性的進步。該系統允許以前所未有的精度對樣品進行高速成像。NANOBEAM nB5的最大分辨率為0.1納米,提供了其他更傳統的SEM無法獲得的成像精度。NB5擁有專用的5軸電動舞臺,使用戶能夠自動掃描樣本並創建可重復的圖像。先進的電機控制算法保證了最佳掃描性能和無縫集成的樣本觀察和控制策略。這些功能大大減少了掃描樣本所需的時間,並使生成復雜圖像的過程自動化。NANOBEAM nB5配備了允許快速樣品裝卸的雙軸級和可調電子束單元,可調整為不同成分的最佳成像樣品。除了高分辨率成像之外,nB5還可以利用其最先進的能量色散X射線光譜儀來分析納米級樣品的元素組成。該EDX工具在實時測量樣品組成時提供了更高的檢測靈敏度和高精度。NANOBEAM nB5還能夠進行實時圖像處理和分析評估,這要歸功於其通用軟件。此軟件可用於分析各種樣本,同時幫助簡化分析並減少樣品處理所需的時間。總體而言,nB5 SEM為材料研發提供了前所未有的精確度和精確度,使其成為廣泛應用的理想工具。
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