二手 PHILIPS / FEI XL 860 #189226 待售

ID: 189226
Dual ion beam system Electron beam: 3nm 1-30kV beam voltage Ion beam: 7nm in second electron mode, 30kV beam voltage Full digital control: Microsoft Win NT Chamber: Can handle both wafers and small samples Stage accuracy: 1.5um over 8" wafers FE-SEM with in-lens detection (2) GIS installed Oxford EDS Edward QDP dry pump.
PHILIPS/FEI XL 860是一種最先進的掃描電子顯微鏡(SEM),設計用於高分辨率成像和分析。它配備了通用影像平臺(UIP)的定制版本,提供卓越的性能和數據質量。該設備能夠提供一系列半導體成像和表征應用,包括微觀結構成像、臨界尺寸測量、高分辨率成像和電子探針微觀分析。FEI XL 860具有寬視野(最大30毫米),以及從5 x到500,000 x的寬放大倍數。這使得成像和測量的精度和精確度都很高。該系統還配備了先進的導航單元,對成像位置提供優越的控制。這臺機器使用兩個相同的電子柱,允許同時成像兩個柱。PHILIPS XL 860有一個集成的能量色散(ED)X射線探測器,可以識別廣泛的元素。X射線分析可以用來確定樣品中某些元素除了組成之外的分布。這使用戶能夠了解樣品的物理和化學特性。XL 860憑借其功能強大且可定制的軟件平臺,還能夠支持3D映像應用程序。3D渲染圖像為用戶提供了前所未有的詳細程度和準確性。這些圖像有助於識別常規成像無法看到的特征,例如精細的表面特征。PHILIPS/FEI XL 860還配有種類繁多的配件,以提升其性能。其中包括鏡頭、對焦鎖、分析儀、晶片和樣品支架的選擇。該工具還可與一系列高端計算機硬件和外圍設備配合使用,以確保優化性能。總體而言,FEI XL 860是一款功能強大、用途廣泛的成像和分析工具。其先進的UIP軟件、多個成像列和廣泛的功能使其成為一系列SEM應用程序的理想選擇。此資產為用戶提供了最高級別的信息和控制,使他們能夠最大限度地發揮SEM的潛力。
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