二手 RAITH / PREMTEK eLine #9382216 待售
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ID: 9382216
E-Beam lithography system
Upgraded to PERIODIX
PC
Laser stage
Lithography and nano-engineering workstation
Universal sample holder: Up 2" square
Pico ampere meter with IEEE-interface
CCD Camera
Electron beam lithography starter kit
Manual included
Precision optical microscope with illumination
Precision 1x imaging optics
Projection corrected optical arrangement
Mounting and alignment set
Optimized illumination LED with optics
High resolution CCD Camera
Frame grabber
Fixed beam moving stage lithography module
Wafer carrier, 3"
Mask carrier, 4"
Automated height sensor
Manual load lock: Up to 100 x 100 mm
With high vacuum gate valve
Control electronics
Oil free pumping system
Filament
Operating system: Windows 7.
RAITH/PREMTEK eLine是一種掃描電子顯微鏡（SEM），廣泛用於研發和工業應用。它旨在為各種樣品材料，包括金屬、半導體和絕緣材料提供清晰的成像和高表面分辨率。SEM由四個主要組件組成--離子柱、電子源、消光槍和級。離子柱用於聚焦和檢測電子束。它由高度穩定的Nikasil靜電塗層制成，有助於減少熱量損失，保持光束電流一致。電子源產生一束電子束，由電磁線圈和源內的磁體引導。消光槍用於降低電子束強度的水平，該級用於樣品操作。RAITH eLine是一種先進的設備,可提供高精度的成像和分析。它帶有反向散射電子成像（BSE）、快速掃描SE（FSSE）、低壓SE（LVSE）、二次電子顯微鏡（SEM）等先進的成像和分析能力。BSE用於表征樣品的地形特征，而FSSE用於捕捉動態過程的超快速成像。LVSE用於生成電子束與樣品相互作用的高分辨率圖像，而SEM可以使用電子束生成高分辨率圖像。PREMTEK eLine還具有多種內置功能，如用於樣品處理的傾斜階段、微觀區域成像、自動送樣器、真空系統和自動模式識別單元。模式識別機允許自動識別樣品表面的缺陷和特征。它能夠達到1nm以下的分辨率。它的放大倍率範圍很廣,從5倍到500,000倍,可以檢查極小的特征。此外,它的高吞吐量允許快速的圖像收集和分析。ELine是需要可靠準確的SEM工具的研究人員和專業人員的理想選擇。RAITH/PREMTEK eLine具有先進的成像和分析功能、內置功能以及高放大倍率和分辨率,是廣泛應用的理想選擇。
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