二手 ZEISS ZBA21 #9108115 待售
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ID: 9108115
晶圓大小: 6"
優質的: 1990
Electron beam lithography system, 6"
Pattern generator
Gun: LaB6
Acceleration voltage: 20 keV
Shot size: Variable shaped rectangular shape, 100×100 nm2 up to 6.3×6.3 µm2
Beam current: 1-2 A/cm2
Interferometric laser stage
Magazine loadlock chamber for (10) substrates
Substrate size: up to 7" square (photo plates)
Turbomolecular pump
Operation and maintenance manuals included
1990 vintage.
ZEISS ZBA21是一種掃描電子顯微鏡,將高分辨率成像和分析與快速高效的數據樣本采集過程相結合。該設備使用電子柱通過檢測樣品發出的電子來創建樣品的圖像,以便給出樣品表面的高度詳細的表示。ZEISS ZBA 21的高分辨率成像能力使得觀測納米尺寸的結構成為可能,這對於晶體結構的分析或納米技術材料的研究等應用非常重要。ZBA21掃描電子顯微鏡配有先進的電子柱設計,可確保穩定可靠的成像性能。柱子上裝有幾個組件,包括一根燈絲和一個有助於引導和聚焦電子的多透鏡系統。這保證了樣品的電子圖像可以極其詳細和準確。ZBA 21能夠成像多種材料,包括無機化合物、半導體和生物樣品。這是由於可以調整的寬範圍的加速電壓和光束電流水平,以控制圖像的分辨率以及它的景深。蔡司ZBA21還能夠處理各種樣本量,非常適合研究小型結構的特性。ZEISS ZBA 21提供了多種圖像采集模式,包括掃描透射電子顯微鏡,它通過成像電子,通過一個紫外線樣品進行透射來創建圖像;反向散射電子成像,通過檢測樣品表面的二次電子來創建圖像;二次電子成像,通過檢測樣品表面的二次電子來創建圖像。這允許進行廣泛的實驗和研究。ZBA21還提供高級數據處理功能,允許用戶快速分析圖像以評估其樣本屬性。這包括尺寸和形狀測量、化學成分映射以及其他分析功能。在安全性方面,ZBA 21單元設計有堅固的屏蔽,最大限度地降低暴露於被調查樣品發出的二次電子或X射線的風險。此外,該機器還具有一個多級壓力控制工具,旨在降低樣品汙染的風險,並確保顯微鏡在安全的壓力範圍內工作。總體而言,ZEISS ZBA21掃描電子顯微鏡是一種先進可靠的工具,它結合了高分辨率成像、高效處理和幾個先進的安全功能,能夠進行廣泛的高級樣品分析和研究。
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