二手 AJA ATC 3400-V #9213688 待售

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製造商
AJA
模型
ATC 3400-V
ID: 9213688
Sputtering system Vertically oriented web drive system Web width capacity: 5" Ion surface treatment source QUARTZ Crystal rate monitors PLANAR Magnetron sputter source Dual planar magnetron sputter source (AC and bipolar capable) ADVANCED ENERGY PEII AC Sputter power supply 10 kW SHIMADZU Turbo-molecular vacuum pump ALCATEL Mechanical vacuum pump Dual sputter gases with mass flow controllers PCC Polycold meissner trap: ~1.5 E-07 Torr Linear cathodes: 5" x 15" (2) Bays: Single ended cathode Dual magnetron sputtering. Does not include ADVANCED ENERGY Pinnacle+ pulsed DC sputter power supply.
AJA ATC 3400-V是為高DOI薄膜應用而設計的高性能濺射設備。該系統利用電子束蒸發技術,以高速率有效濺射復合氧化鋁薄膜。它采用兩種高性能離子源,產生均勻的高密度等離子體,並提供優越的均勻沈積速率,提供優越且經濟高效的沈積控制。該單元可以垂直或水平配置操作,設計為與直流(DC)和交流電(AC)操作兼容。ATC 3400-V提供自動化的過程監測和控制,以及先進的離子束分析(IBA)技術,能夠測量元素分布和晶粒尺寸,以及測量薄膜內的晶粒尺寸分布。該機為濺射提供了六種標準目標選擇--Al-Ni目標、Al-SiC目標、Ni@@-C目標、Al-Ta目標、Al-Sn目標和Al-Cu目標。此外,該工具還提供了一種外部氣體資產,可用於濺射α-Al2O3、β-Al2O3和TiO2。該模型還包括一個在線服務監視器,該監視器可以識別濺射過程中的異常並診斷問題,然後才能損壞薄膜。AJA ATC 3400-V工作環境溫度範圍為4°C至40°C,相對濕度範圍為0%-85%。它提供了兩個加熱負載鎖,可以容納直徑達十二英寸的基板。ATC 3400-V的堅固設計提供高達20 μ m/min的高沈積速率,確保適合大批量生產。AJA ATC 3400-V的設計考慮到安全性,具有物理和電子安全功能。設備包括一個安全存儲模塊和一個E-STOP交換機,可在需要時快速輕松地關閉系統。此外,該設備還能夠通過遠程網絡進行控制,在操作機器時無需在同一位置進行操作,從而讓您放心。總之,ATC 3400-V是一種適用於生產高DOI薄膜的高性能濺射工具。它提供了監測和控制沈積速率的自動化過程,以及一系列高性能離子源和目標選項。它還設計了堅固的組件,以實現較高的沈積速率,並具有安全功能,以實現安心。
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