二手 AJA ATC Orion 5 UHV #9049698 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9049698
優質的: 2006
Sputter coater
Currently configured for manual operation, fully automatic capable
Substrate bias and rotation
(3) Independent sputter guns
(2) DC Power supplies, 500W
RF Power supply, 300W
Substrate size:
< 5.75" diameter (sputter-up) with z-axis shift (2")
Rotation to 20 rpm
Heating up to 800ºC with RF bias capability to 50 W RF
Sputter guns:
(3) 2" O.D. Targets
With integrated shutters for RF or DC (metallics/dielectrics) sputtering
Confocal, sputter-up arrangement
Capable of being upgraded to (5) cathodes
Power supplies:
(2) ADVANCED ENERGY 500 W DC supplies
1300 W Seren RF generator with manual impedance match and selector switch
Substrate heating:
PID Temperature programmable controller
(2) 1000 W Quartz lamps for heating inside water-cooled reflector box
Vacuum generation:
PFEIFFER 500 L/sec turbo pump
With magnetic bearing on vac side and ceramic bearing on motor side
Backed by ADIXEN ACP15 dry rotary lobe pump: Oil-free deposition system
Sputtered: metals and metal oxides:
Copper
Precious metals
Nickel
Iron
Vanadium
Molybdenum
Aluminum
Alumina
Carbon / Graphite
Currently de-installed and stored in a cleanroom
2006 vintage.
AJA ATC Orion 5 UHV是一種用於加工材料的濺射設備，精度和精度都很高。這個先進的系統利用了強大的高真空單元，能夠維持6.5x10-7 Torr的最大真空壓力。它具有5目標濺射室，具有8接地的加熱陽極，允許不同的濺射配置，包括高功率和低功率濺射操作。該機還包括模塊化設計，目標到基板距離可調，以及自動化的高速率等離子體清洗功能。除了濺射的進步，ATC Orion 5特高壓工具還具有基板的溫度控制功能。該資產支持高達500 °C的主動加熱範圍，允許對基板表面進行精確的溫度控制。由於熱處理可以極大地影響金屬化部件的性能，因此這一特性可以更好地控制膜的形態和組成。AJA ATC Orion 5 UHV提供精確的運動控制，能夠在不汙染目標表面的情況下實現精確的塗層沈積。運動控制允許靈活編程，線性和螺旋掃描模式，以確保均勻膜沈積速率。它還具有振蕩掃描模型，通過在X-Y平面中振蕩目標來精確掃描目標，以減少目標相互擴散的影響。最後，ATC Orion 5 UHV配備了先進的自動化設備，以確保在濺射過程參數內的準確性和可重復性。該系統包括計算機控制操作、多程序排序功能以及易於操作的用戶友好圖形編程工具。它還跟蹤濺射參數和參數，以確保塗層結果的可重復性和可重復性。總體而言，AJA ATC Orion 5 UHV是一種強大而精確的濺射裝置，非常適合進行薄膜沈積過程。其主動加熱範圍和精確的運動控制為材料的沈積提供了更大的控制。它的自動化功能最大限度地提高了效率,減少了加工材料所需的時間。有了這些特點，ATC Orion 5特高壓是許多薄膜應用的完美解決方案。
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