二手 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER SCM 650 #9258696 待售
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ID: 9258696
Sputtering system
RF/DC Sputtering
Ionic cleaning
Cathodes: (2) Magnetron targets, 8"
Substrate transport load lock: 6" Diameter substrates
Substrate holder:
(4) Stations
(6) Indexed positions
(4) Transfers with (2) sputtering positions
Rotation: 1 to 30 RPM
Vertical translation: 50 to 100 mm
Shutter: 1 3/4 Automatic shutter
Generators:
RF Generator: 2000W For the targets 1 and 2 and substrate holder
DC Generator: 3000W For the targets 1 and 2
(2) Gas lines.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER SCM 650是一款先進的全功能濺射設備,具有可變高壓電源和強大的控制,以實現並保持準確的沈積過程。這種最先進的PVD系統是為薄膜的工業沈積而設計的,非常適合光學塗層和磁數據存儲應用。ADIXEN SCM 650由高效的高壓電源、精確的磁濾波器和全尺寸的濺射室組成。該室設計用於最佳的熱管理,並包含一個強大的均勻磁場極精確的薄膜沈積。高效高壓電源為薄膜真空沈積提供強大、精確、一致的電源。電源能夠在高達2.5kV的高電壓下運行,並提供從0.5kW到20kW的濺射電源(群集配置)。電源還允許隨時間和溫度水平的控制曲線變化功率。ALCATEL SCM 650的精確磁濾器有助於通過濾除大氣中的雜質來確保均勻的濺射過程。磁濾鏡還保持膜沈積的均勻性,在基板上產生均勻的薄膜。PFEIFFER SCM 650配備了多種特性,以最大限度地實現均勻性和過程控制。它有一個內部晶片監控單元,一個精確的開關機,一個溫度控制器和一個氧氣監控器。它還提供了先進的等離子體控制系統,如多區域氣體分配工具和雙氣體噴射器。氣體註入資產允許使用溫度控制的陽極和陰極對氣體流動和溫度控制進行精確控制。SCM 650是用於光學薄膜塗層和磁性數據存儲介質等高精度薄膜沈積的理想模型。它為均勻、一致的薄膜沈積提供了一致、精確、高效的濺射。完全集成的設備為可靠和準確的過程提供了有效和精確的控制。
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