二手 ALCATEL / MEIVAC HEDA 2460 #9233936 待售
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ID: 9233936
優質的: 1994
Sputter deposition system
RF Diode, 17"
Batch load
Throughput:
Overhead for wafer load: 2 Hrs
Pumping and venting plus deposition time: 3+ Microns / Hour
Wafer capacity:
(20) 3" Rounds
(12) 4" Rounds
(9) 5" rounds
(5) 6" rounds
Ultimate pressure: 2 x 10^-7 Torr
Sputtering process: RF Diode
Size, 17" square
Uniformity: 3% 1 Sigma (10 mm Edge exclusion)
1994 vintage.
ALCATEL/MEIVAC HEDA 2460是一種多功能濺射設備,設計用於將材料薄膜沈積在基板上。它是一種高通量濺射工具,能夠生產均勻的薄膜沈積物,具有良好的臺階覆蓋率和表面質量。MEIVAC HEDA 2460采用各種組件和功能,可精確控制濺射過程。ALCATEL HEDA 2460的中心是一個磁控管,內部磁鐵在濺射源產生高磁場。這使得等離子體可以達到高達10,000 K的溫度,從而實現高濺射速率。該系統還包括提供離子轟擊和表面硬化膜的離子源。此外,該單元還提供了一個原位快門,允許沈積具有精確定義的厚度和特性的多層。機器還提供了一個可編程控制器,使用戶能夠為每個層精確定義沈積參數。這些包括脈沖寬度、功率水平和沈積頻率,以滿足任何特定的工藝要求。這確保了對沈積過程及其整體性能的最佳控制。控制器還監控沈積過程,提供關於濺射速率、均勻性和可重復性的反饋。這允許使用者快速調整參數,以確保沈積均勻,並預測沈積行為。HEDA 2460還提供了觸摸屏顯示屏,它提供了一個直觀的界面來訪問工具的所有功能和設置。這可以讓用戶方便地調整參數,監控沈積過程,儲存配方和沈積配方以備將來使用。ALCATEL/MEIVAC HEDA 2460是復雜薄膜沈積工藝的最佳選擇,提供了速度、靈活性和厚度的精確控制。這些特性使其成為一種經濟高效的解決方案,可在一系列應用中生產高性能濺射薄膜。
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