二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9018803 待售
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已售出
ID: 9018803
優質的: 2006
System
Application:
Coating method: MF Twin Mag Sputtering
Coating direction: sputter down
Coating influenced by gases
Electrical connection
3 phase, PE, N, AC 400 V, 50 Hz, Full-load-current: 986 A
Cycle time per carrier M01: ca. 60 sec.
Brut capacity (at 100% uptime): Aton: max. 5400 Wafer / h
Targets: Silicon M06 - Planar Twin Mag Cathode M08 - Rotatable Twin VAC - Mag Cathode
Gas: Ar - argon, N2 - nitrogen, NH3 - ammonia
Compressed air: pressure: 6 bar - 8 bar
Wafer: 150 mm x 80 mm
Carrier material: Carbon (CFC) 1800 mm x 920 mm, 90 Wafer / Carrier
Loader / Unloader / Carrier transport system: Jonas & Redmann
Retrofit: upgraded lock valve in 2008, upgraded cathode M08 to rotatable in 2011
Flooded with N2
Cooling water: emptied
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600濺射設備是一種功能強大、用途廣泛的將薄膜塗覆到基板上的系統。它采用物理和化學氣相沈積方法相結合，將金屬、介電和半導體材料的薄層塗抹在晶圓、基板和其他組件上。它專為大批量生產和研究而設計,具有各種定制和靈活性選項。AMAT ATON 1600的腔室最大尺寸為600mm x 600mm x 250 mm，最多可容納30個晶圓。它具有自動腔室清洗和晶片處理夾具，調整以適應工作的需要。它有一個8英寸的等離子體發生器，能夠產生高達2000W的等離子體功率，並提供具有多種電極配置的單目標或多目標濺射。它還配置了薄膜監視器、電阻率監視器和晶圓溫度傳感器。增加負載鎖可以使設備在冷卻階段不間斷地運行,並縮短整個循環時間。該機可用於常規物理濺射、納米塗層、反應性濺射、片狀電阻和覆蓋。其威力和柔韌性使其適合半導體、MEMS、金屬化陶瓷、紅外鏡片等多種應用。該工具具有直觀的圖形用戶界面、自動化的過程控制資產、電子束儀表，可以從單個位置進行遠程監控和操作。高級流程控制選項包括配方編程、流程參數優化以及實時反饋和審核。該模型還能夠進行診斷和臨時實驗。總體而言，APPLICED MATERIALS ATON 1600濺射設備是在基板上塗覆薄膜的先進、強大工具。其靈活的設計和先進的特點使其成為大批量生產和研究應用的理想之選。該系統設計高效、精確、可靠，使用戶能夠最大限度地提高薄膜塗層的質量和產量。
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