二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9248312 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600濺射設備是用於物理氣相沈積（PVD）和化學氣相沈積（CVD）的高度先進的通用工具。AMAT ATON 1600采用超高真空、最先進的技術以及先進的材料和工藝，達到沈積均勻性和可重復性的最高水平。APPLIED MATERIALS ATON 1600允許用戶將兩個或多個目標材料同時濺射到多個基板上。每個過程都通過專有系統獨立控制，允許用戶控制單獨的過程參數，如腔室壓力、目標功率、基板溫度和氣體流速。此外,ATON 1600允許在沈積和循環之間自動循環事件,使用戶能夠準確控制材料的制備、沈積和固化方式。AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600還利用了先進的離子束表面預處理技術，用於無機材料和類似金剛石的薄膜。這一創新技術涉及用高能離子束轟擊基板（或單獨的一塊基板材料）。這會使物質在原子上變得無定形且具有很高的反應性。原子清潔的表面可以通過濺射或使用AMAT ATON 1600等離子體輔助沈積形成。這種高能濺射以及低能反應性離子蝕刻可用於獲得超細厚度均勻性和提高步長覆蓋率的高精度。利用這些無像差沈積技術，APPLIED MATERIALS ATON 1600使使用者即使在困難的底物上也能製造出極均勻的薄膜。ATON 1600還具有獨特的雙負載鎖定配置,可以快速輕松地加載設備,同時提供恒定的真空完整性和高吞吐量。該機還具有先進的自動化等離子體輔助高密度等離子體源，用於高精度蝕刻工藝。AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600還配備了集成致動器，可直接控制沈積過程中基板的旋轉和定位。AMAT ATON 1600是光學薄膜沈積、硬盤存儲介質、精密沈積、密封環沈積、多層堆棧等應用的理想工具。通過利用APPLICED MATERIALS ATON 1600提供的革命性技術和工藝,用戶能夠創造出高度均勻且具有出色階梯覆蓋範圍的卓越薄膜沈積結果。