二手 AMAT / APPLIED MATERIALS NAR 1200L #9250995 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT NAR 1200L是一種高精度濺射設備,用於將材料薄膜沈積到諸如半導體晶圓之類的基板上。該系統便於生產計算機芯片等集成電路，這些集成電路在制造過程中需要層層的不同材料。具體而言，1200L是一個自動化的數字濺射沈積單元，可以在雙托盤上工作，允許將不同的材料並行沈積到不同的基板上。這種濺射沈積機采用了先進的直接驅動設計，在這種設計中，濺射頭直接由馬達驅動，不使用任何軸承或密封，從而提高了刀具的可靠性和正常運行時間。1200L資產為12英寸模型，能夠沈積大基質。通過將機器人技術集成到濺射沈積系統中，實現了晶圓的高效處理和更高的吞吐量。設備先進的低調濺射室設計確保了整個基板的高均勻性。該系統基於各種定制和市售的硬件和軟件解決方案構建,使客戶能夠選擇滿足其特定流程需求的最高效技術。它有一個單獨的控制模塊，通過控制真空水平、目標到基板距離等特性來優化濺射過程，同時保持過程的均勻性和重復性。1200L裝置配備了強大的計算機控制濺射源，能夠高速率沈積導電、絕緣、透明和半導體薄膜。它還能夠為不同的流程和子流程定制單獨的配方。此外，機器還有一個內部硬件，用於監控工藝條件和氣體壓力，以控制和提高工藝的可重復性。該工具還包括一個用於實時監控和可視化過程的高分辨率攝像機，以及一個就地電阻率監視器，該監視器對目前正在沈積的膠片特性提供反饋。AKT NAR 1200L濺射資產具有靈活、堅固和高性能的特點,是生產需要材料薄膜的集成電路的理想解決方案。其雙托盤設計允許並行沈積過程，其強大的沈積源使其能夠生產出符合集成電路生產要求要求的高質量薄膜。