二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9080130 待售

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ID: 9080130
Tungsten CVD sputter system Includes: (2) Centura WXz chambers (1) Centura WxP 200 chamber Remote frame Generators: No Robot and linkage (3) Flowmeters for the process cooling water on the back Electronics rack: 15V Power supply Missing part: Robot blade Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種高性能蝕刻反應器,適用於要求最苛刻的蝕刻應用。該反應堆具有廣泛的能力,包括耗盡和富集蝕刻、離子輔助蝕刻、物理氣相沈積(PVD)和反應性離子蝕刻(RIE)工藝。擁有專利的VHF磁控管源,以及能夠達到5 x 1012 cm-3的等離子體密度,這座反應堆擁有保證頂尖成績所需的動力。AMAT P5000 Mark II提供出色的基板溫度控制,溫度範圍為-25℃至75℃,±1℃耐受溫度範圍為300℃。它還具有高效的源移動器,可實現最佳的源放置,並在所有基板上均勻地進行出色的蝕刻。其磁控管設計優化了離子通量、離子能量、源功率的比值,以保證高蝕刻速率、低基板損傷、最佳均勻性。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II的模塊化設計確保了靈活性和可升級性,允許用戶無縫安裝升級模塊,例如可選的遠程晶圓前真空系統。該系統允許處理多個晶片而不會中斷,從而確保了高效的蝕刻過程。該設計還可以通過調整工藝參數來控制和避免寄生蝕刻。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II配備高精度控制器,根據嚴格的工藝要求量身定制。該控制器采用專利自適應腔室技術,實現了更高的精度、更好的均勻性和更寬的工藝窗口。使用直觀的觸摸屏界面輕松配置設置。此外,控制器還可以與各種機床系統互連,以實現最終的控制和效率.最後,該反應堆經過設計,以提高安全性。它的耐用性和保護功能滿足最高的安全要求,確保符合操作要求。在外部,P5000 Mark II具有低級別的安全蓋、集成的安全標誌和信號,以及非磁性不銹鋼的腔室保護層。簡而言之,APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種非常先進的蝕刻反應器,具有極致的蝕刻性能。它提供了無與倫比的精度、可靠性和安全性,以確保一致的高質量結果。
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